Perpendicular exchange bias in antiferromagnetic-ferromagnetic nanostructures
Sort Viñas, Jordi (SPINTEC (Spin Electronics Research))
Dieny, B. (SPINTEC (Spin Electronics Research))
Fraune, M. (Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen. Institut für physikalisches)
Koenig, C. (Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen. Institut für physikalisches)
Lunnebach, F. (Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen. Institut für physikalisches)
Beschoten, Bernd (Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen. Institut für physikalisches)
Guntherodt, G. (Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule Aachen. Institut für physikalisches)
American Physical Society

Fecha:	2004
Resumen:	Exchange bias effects have been induced along the perpendicular-to-film direction in nanostructures prepared by electron beamlithography, consisting of a ferromagnetic [Pt/Co] multilayer exchange coupled to an antiferromagnet (FeMn). As a general trend, the exchange bias field and the blocking temperature decrease, whereas the coercivity increases, as the size of the nanostructures is reduced.
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Derechos:	Tots els drets reservats.
Lengua:	Anglès
Documento:	Article ; recerca ; Versió publicada
Materia:	Exchange interactions ; Nanostructures ; Antiferromagnetism ; Coercive force ; Electron beams ; Ferromagnetism ; Multilayers ; Nanolithography
Publicado en:	Applied physics letters, Vol. 84, Issue 18 (April 2004) , p. 3696-3698, ISSN 1077-3118

DOI: 10.1063/1.1737484

4 p, 386.2 KB

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