Pàgina inicial > Resultats de la cerca: III-V semiconductors
  Consells de cerca
Cerca avançada
Cerca col·leccions:
Ordena'ls per: Mostrar els resultats: Format de visualizació:
Resultats globals: 6 registres trobats en 0.04 segons.
Articles, 6 registres trobats
Articles 6 registres trobats  
1.
4 p, 448.3 KB Monitoring defects in III-V materials : a nanoscale CAFM study / Iglesias, V. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Wu, Q. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Porti i Pujal, Marc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Bersuker, G. (Sematech) ; Cordes, A. (Sematech)
The implementation of high mobility devices requires growing III-V materials on silicon substrates. However, due to the lattice mismatch between these materials, III-V semiconductors tend to develop structural defects affecting device electrical characteristics. [...]
2015 - 10.1016/j.mee.2015.04.058
Microelectronic engineering, Vol. 147 (Nov. 2015) , p. 176-179  
Registre complet - Creative Commons
2.
5 p, 1.9 MB Gate current analysis of AlGaN/GaN on silicon heterojunction transistors at the nanoscale / Fontserè Recuenco, Abel (Centro Nacional de Microelectrónica) ; Perez-Tomas, Amador (Centro Nacional de Microelectrónica) ; Placidi, Marcel (Centro Nacional de Microelectrónica) ; Aguiló Llobet, Jordi (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Microelectrònica i Sistemes Electrònics) ; Baron, N. (Centre National de la Recherche Scientifique (França)) ; Chenot, S. (Centre National de la Recherche Scientifique (França)) ; Cordier, Y. (Centre National de la Recherche Scientifique (França)) ; Moreno, J. C. (Centre National de la Recherche Scientifique (França)) ; Iglesias Santiso, Vanessa (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Porti i Pujal, Marc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Bayerl, Albin (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Lanza, Mario (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
The gate leakage current of AlGaN/GaN (on silicon)high electron mobility transistor(HEMT) is investigated at the micro and nanoscale. The gate current dependence (25-310 °C) on the temperature is used to identify the potential conduction mechanisms, as trap assisted tunneling or field emission. [...]
2012 - 10.1063/1.4748115
Applied physics letters, Vol. 101, Issue 9 (August 2012) , p. 093505/1-093505/4  
Registre complet -
3.
4 p, 288.8 KB Modeling the breakdown spots in silicon dioxide films as point contacts / Suñé, Jordi, 1963- (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Miranda, Enrique (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Aymerich Humet, Xavier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; American Physical Society
Experiments and simulations are combined to demonstrate that the hard dielectric breakdown of thin SiO2 films in polycrystaline silicon/oxide/semiconductor structures leads to the formation of conduction paths with atomic-size dimensions which behave as point contacts between the silicon electrodes. [...]
1999 - 10.1063/1.124566
Applied physics letters, Vol. 75, Issue 7 (June 1999) , p. 959-961  
Registre complet -
4.
4 p, 673.6 KB Resonant interband tunneling spin filter / Ting, David Z. -Y. (California Institute of Technology. Jet Propulsion Laboratory) ; Cartoixà Soler, Xavier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; American Physical Society
We propose an InAs/GaSb/AlSb-based asymmetric resonant interband tunnelingdiode as a spin filter. The interband design exploits large valence band spin-orbit interaction to provide strong spin selectivity, without suffering from fast hole spin relaxation. [...]
2002 - 10.1063/1.1524700
Applied physics letters, Vol. 81, Issue 22 (November 2002) , p. 4198-4200  
Registre complet -
5.
4 p, 314.0 KB Self-consistent simulation of quantum shot noise in nanoscale electron devices / Oriols, Xavier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Trois, A. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Blouin, G. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; American Physical Society
An approach for studying shot noise in mesoscopic systems that explicitly includes the Coulomb interaction among electrons, by self-consistently solving the Poisson equation, is presented. As a test, current fluctuations on a standard resonant tunneling diode are simulated in agreement with previous predictions and experimental results. [...]
2004 - 10.1063/1.1806546
Applied physics letters, Vol. 85, Num. 16 (October 2004) , p. 3596-3598  
Registre complet -
6.
4 p, 404.7 KB Localized and distributed mass detectors with high sensitivity based on thin-film bulk acoustic resonators / Campanella, Humberto (Centro Nacional de Microelectrónica) ; Esteve, Jaume (Centro Nacional de Microelectrónica) ; Montserrat, Josep (Centro Nacional de Microelectrónica) ; Uranga del Monte, Aránzazu (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Abadal Berini, Gabriel (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Barniol i Beumala, Núria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Romano Rodríguez, Alberto (Universitat de Barcelona. Departament d'Electrònica) ; American Physical Society
A mass sensor based on thin-film bulk acoustic resonator, intended for biomolecular applications, is presented. The thin film is a (002) AlN membrane, sputtered over Ti/Pt on a (001) Si wafer, and released by surface micromachining of silicon. [...]
2006 - 10.1063/1.2234305
Applied physics letters, Vol. 89, Issue 3 (July 2006) , p. 033507/1-033507/3  
Registre complet -

Us interessa rebre alertes sobre nous resultats d'aquesta cerca?
Definiu una alerta personal via correu electrònic o subscribiu-vos al canal RSS.
Dipòsit Digital de Documents de la UAB :: Cerca :: Lliura :: Personalitza :: Ajuda
Powered by Invenio v1.1.6
Mantingut per ddd.bib@uab.cat  :: Metadades subjectes a:
Col·laborem