 visitant ::
identificació
|
|||||||||||||||
|
Cerca | Lliura | Ajuda | Servei de Biblioteques | Sobre el DDD | Català English Español | |||||||||
| Pàgina inicial > Articles > Articles publicats > Ethanol Solvation of Polymer Residues in Graphene Solution-Gated Field Effect Transistors |
(Institute of Microelectronics of Barcelona) (Instituto de Salud Carlos III) (Universidade da Coruña) (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) (Centro de Instituto de Salud Carlos III) (Basque Foundation for Science) (Universidade da Coruña) (Instituto de Salud Carlos III)
| Data: | 2024 |
| Resum: | The persistence of photoresist residues from microfabrication procedures causes significant obstacles in the technological advancement of graphene-based electronic devices. These residues induce undesired chemical doping effects, diminish carrier mobility, and deteriorate the signal-to-noise ratio, making them critical in certain contexts, including sensing and electrical recording applications. In graphene solution-gated field-effect transistors (gSGFETs), the presence of polymer contaminants makes it difficult to perform precise electrical measurements, introducing response variability and calibration challenges. Given the absence of viable short to midterm alternatives to polymer-intensive microfabrication techniques, a postpatterning treatment involving THF and ethanol solvents was evaluated, with ethanol being the most effective, environmentally sustainable, and safe method for residue removal. Employing a comprehensive analysis with XPS, AFM, and Raman spectroscopy, together with electrical characterization, we investigated the influence of residual polymers on graphene surface properties and transistor functionality. Ethanol treatment exhibited a pronounced enhancement in gSGFET performance, as evidenced by a shift in the charge neutrality point and reduced dispersion. This systematic cleaning methodology holds the potential to improve the reproducibility and precision in the manufacturing of graphene devices. Particularly, by using ethanol for residue removal, we align our methodology with the principles of green chemistry, minimizing environmental impact while advancing diverse graphene technology applications. |
| Ajuts: | European Commission 881603 European Commission 785219 Agència de Gestió d'Ajuts Universitaris i de Recerca 2021/SGR-00495 Agència de Gestió d'Ajuts Universitaris i de Recerca 2021/SGR-001534 Agencia Estatal de Investigación RYC-2016-21412 Agencia Estatal de Investigación RYC2019-027879-I Agencia Estatal de Investigación FJC2021-046601-I Agencia Estatal de Investigación PID2021-126117NA-I00 Agencia Estatal de Investigación PID2020-113663RB-I00 Agencia Estatal de Investigación PLEC2022-009232 Agencia Estatal de Investigación RYC2020-030183-I Agencia Estatal de Investigación MDM-2017-0720 Agencia Estatal de Investigación SEV-2017-0706 Agencia Estatal de Investigación CEX2021-001214-S Ministerio de Sanidad y Consumo CB06/01/0049 |
| Drets: | Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, la comunicació pública de l'obra i la creació d'obres derivades, fins i tot amb finalitats comercials, sempre i quan es reconegui l'autoria de l'obra original.  |
| Llengua: | Anglès |
| Document: | Article ; recerca ; Versió publicada |
| Matèria: | Graphene ; Polymer residues ; Ethanol ; Green solvent ; Solution-gated field-effect transistors (SGFETs) |
| Publicat a: | ACS sustainable chemistry & engineering, Vol. 12, Issue 24 (June 2024) , p. 9133-9143, ISSN 2168-0485 |
