Resultats globals: 23 registres trobats en 0.03 segons.
Materials de curs, 7 registres trobats
Documents de recerca, 8 registres trobats
Articles, 8 registres trobats
Materials de curs 7 registres trobats  
1.
3 p, 71.1 KB Advanced Nanomanufacturing [43439] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Benítez Almarza, Maria Ángeles ; Torres Canals, Francisco (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Evangelio Araujo, Laura ; Borrise Nogué, Xavier ; Rius Suñé, Gemma ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]
2017-18
Màster Universitari en Nanociència i Nanotecnologia Avançades/ Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1360]  
2.
5 p, 82.4 KB Nanofabricació [103306] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
L'objectiu del mòdul és donar a conèixer les tècniques i mètodes que existeixen de fabricació a escala micro- i nanomètrica, de manera que l'alumne queda capacitat per definir una seqüència adient de processos per a la realització de qualsevol tipus de dispositiu o estructura funcional. [...]
2017-18
Grau en Nanociència i Nanotecnologia [983]  
3.
3 p, 71.2 KB Advanced Nanomanufacturing [43439] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]
2016-17
1360 [1360]  
4.
5 p, 82.4 KB Nanofabricació [103306] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
L'objectiu del mòdul és donar a conèixer les tècniques i mètodes que existeixen de fabricació a escala micro- i nanomètrica, de manera que l'alumne queda capacitat per definir una seqüència adient de processos per a la realització de qualsevol tipus de dispositiu o estructura funcional. [...]
2016-17
Nanociència i Nanotecnologia [983]  
5.
5 p, 29.4 KB Nanofabricació [103306] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
L'objectiu del mòdul és donar a conèixer les tècniques i mètodes que existeixen de fabricació a escala micro- i nanomètrica, de manera que l'alumne queda capacitat per definir una seqüència adient de processos per a la realització de qualsevol tipus de dispositiu o estructura funcional. [...]
2015-16
Nanociència i Nanotecnologia [983]  
6.
3 p, 99.5 KB Advanced Nanomanufacturing [43439] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
Donar a conèixer en profunditat el mètodes més habituals de nanoestructuració de superfícies. Conèixer en detall les prestacions i limitacions dels principals mètodes de litografia. Capacitar l'alumne per dissenyar un procés complert de fabricació de dispositius i nanoestructures. [...]
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]

2014-15
Nanociència i Nanotecnologia Avançades / Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1276]
2 documents
7.
5 p, 106.4 KB Nanofabricació [103306] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
L'objectiu del mòdul és donar a conèixer les tècniques i mètodes que existeixen de fabricació a escala micro- i nanomètrica, de manera que l'alumne queda capacitat per definir una seqüència adient de processos per a la realització de qualsevol tipus de dispositiu o estructura funcional. [...]
2014-15
Nanociència i Nanotecnologia [983]  

Documents de recerca 8 registres trobats  
1.
117 p, 5.4 MB Focused ion beam implantation as a tool for the fabrication of nano electromechanical devices / Llobet Sixto, Jordi ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Borrisé Nogué, Xavier, dir. ; Sort Viñas, Jordi ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física
La tesi doctoral titulada "Focused ion beam implantation as a tool for the fabrication of nano electromechanical devices" aborda el repte de la fabricació de ressonadors nano-mètrics des d'una nova òptica basada en la implantació iònica mitjançant un feix de ions focalitzat (FIB). [...]
The thesis entitled "Focused ion beam implantation as a tool for the fabrication of nano electromechanical devices" aboard the challenge of the fabrication of nanometric resonators from a new approach based on ion implantation by a focused ion beam (FIB) . [...]

[Barcelona] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2016  
2.
191 p, 4.9 MB Fabrication methods for functional nanoparticles and interdigitated nanoelectrodes / Alayo Bueno, Nerea ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Valle Zafra, Manuel del, tutor (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Química) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Química
Esta tesis presenta el desarrollo de nuevos métodos de nanofabricacion para la preparación de nanopartículas funcionales y electrodos interdigitados. El trabajo incluye el diseño, fabricación y caracterización de diferentes métodos que solucionan algunas de los retos que presenta la nanotechnología hoy en día. [...]
This thesis presents the development of novel nanofabrication methods for the preparation of functional nanoparticles and interdigitated nanoelectrodes. The work includes the design, fabrication and characterization of different approaches that overcome some of the current challenges in nanotechnology. [...]

[Barcelona] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2013  
3.
225 p, 3.1 MB Characterization of nanomechanical resonators based on silicon nanowires / Sansa Perna, Marc ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Barniol i Beumala, Núria, tutora (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica
Els sensors de massa nanomecànics han atret un gran interès darrerament per la seva alta sensibilitat, que ve donada per les petites dimensions del ressonador que actua com a element sensor. Aquesta tesi tracta sobre la fabricació i caracterització de ressonadors nanomecànics per a aplicacions de sensat de massa. [...]
Nanomechanical mass sensors have attracted interest during the last years thanks to their unprecedented sensitivities, which arise from the small dimensions of the resonator which comprises the sensing element. [...]

[Barcelona] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2013  
4.
8 p, 696.4 KB Procedimiento de integración monolítica de materiales de alta calidad mecánica con circuitos integrados para aplicaciones MEMS/NEMS / Abadal Berini, Gabriel (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Barniol i Beumala, Núria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Esteve Tinto, Jaume (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Enginyeria Electrònica) ; Figueras Costa, Eduardo (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Verd Martorell, Jaume (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Villarroya Gaudó, María ; Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Campabadal Segura, Francesca ; Universitat Autònoma de Barcelona ; Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya)
Comprende utilizar para la formación de dicha circuitería electrónica y de dichos sistemas micra/nano-electromecánicos, una estructura de al menos tres capas: - una inferior o de base destinada a ser utilizada para formar dichos circuitos electrónicos; - una capa intermedia aislante; y - una capa superior destinada a formar, al menos en parte, dichos MEMS/NEMS, Dicha estructura de al menos tres capas es un substrato, tal como un substrato SOI, cuyas capas están unidas entre sí previamente a la formación en las mismas tanto de los citados circuitos electrónicos como de los referidos MEMS/NEMS, definiéndose en primer lugar unas zonas de dichas capas superior en intermedia donde se desean formar dichos MEMS/NEMS, y eliminándose el resto de dichas capas para poder acceder a la capa inferior y poder formar la circuitería electrónica mediante técnicas convencionales.
Madrid : Oficina Española de Patentes y Marcas, 2008  
5.
94 p, 7.7 MB Diseño de dispositivos optoelectrónicos integrados : métodos numéricos de simulación de la propagación de ondas electromagnéticas / Jiménez Jiménez, David (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
La tesis se centra en el desarrollo de metodos numéricos para simular la propagación del campo electromagnético en guías de onda, haciendo especial énfasis en la investigación de condiciones de frontera que permitan el flujo de las ondas radiadas hacia el exterior de la región de cálculo. [...]
Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2008  
6.
127 p, 5.8 MB Electron beam lithography for nanofabrication / Rius Suñé, Gemma ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Bausells Roige, Joan, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
La litografía por haz de electrones (Electron Beam Lithography, EBL) se ha consolidado como una de las técnicas más eficaces que permiten definir motivos en el rango nanométrico. Su implantación ha permitido la nanofabricación de estructuras y dispositivos para su uso en el campo de la nanotecnología y la nanociencia. [...]
Electron beam lithography (EBL) has consolidated as one of the most common techniques for patterning at the nanoscale meter range. It has enabled the nanofabrication of structures and devices within the research field of nanotechnology and nanoscience. [...]

Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2008
2 documents
7.
74 p, 5.4 MB Integration of nanomechanical sensors on CMOS by nanopatterning methods / Arcamone, Julien ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Brémond, Georges, dir. (Centre national de la recherche scientifique (França))
La presente tesis ha sido realizada principalmente en el Centro Nacional de Microelectrónica de Barcelona (CNM-IMB) del CSIC, y en parte también en el Instituto de Nanotecnología de Lyon (Francia) del CNRS. [...]
This thesis has been a co-direction between Dr. F. Pérez-Murano from CNM-CSIC, Barcelona (Spain) and Pr. G. Brémond from INSA Lyon/INL-CNRS (France). This work involves two main aspects: one has to see with the modeling, the design and the operation of a nanomechanical device integrated on CMOS, and the other on nanofabrication techniques. [...]

Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2007
4 documents
8.
144 p, 7.3 MB Micro/nano fabrication of polymer-based devices / Martín Olmos, Cristina ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Llobera Adan, Andreu, dir. (Consejo Superior de Investigaciones Científicas)
Aquest document resumeix el treball d'investigació realitzat per l'obtenció del títol de Doctor en Enginyeria Electrònica a la Universitat Autònoma de Barcelona (UAB). El treball ha estat elaborat al Centre Nacional de Microelectrònica (CNM), a l'Institut de Microelectrònica de Barcelona (IMB). [...]
Este documento resume el trabajo de investigación realizado para la obtención del título de Doctora en Ingeniería Electrónica en la Universitat Autònoma de Barcelona (UAB). El trabajo ha sido elaborado en el Centro Nacional de Microelectrónica (CNM), en el Instituto de Microelectrónica de Barcelona (IMB). [...]
This document summarizes the research work performed in order to obtain the Ph. D. degree in Electronic Engineering at the Universitat Autònoma de Barcelona (UAB). The work has been done at the National Centre for Microelectronics (Centro Nacional de Microelectrónica CNM), at the Institute of Microelectronics in Barcelona (IMB). [...]

Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2008
2 documents

Articles 8 registres trobats  
1.
12 p, 2.7 MB Top-Down CMOS-NEMS Polysilicon Nanowire with Piezoresistive Transduction / Marigó Ferrer, Eloi (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Enginyeria Electrònica) ; Sansa Perna Marc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Uranga del Monte, Aránzazu (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Barniol i Beumala, Núria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
A top-down clamped-clamped beam integrated in a CMOS technology with a cross section of 500 nm × 280 nm has been electrostatic actuated and sensed using two different transduction methods: capacitive and piezoresistive. [...]
2015
Sensors, Vol. 15 (2015) , p. 17036-1704  
2.
4 p, 355.8 KB Ultrasensitive mass sensor fully integrated with complementary metal-oxide-semiconductor circuitry / Forsen, E. (Technical University of Denmark. Department of Micro and Nanotechnology) ; Abadal Berini, Gabriel (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Ghatnekar-Nilsson, S. (University of Lund. Solid State Physics and The Nanometer Consortium) ; Teva Meroño, Jordi (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Verd Martorell, Jaume (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Sandberg, R. (Technical University of Denmark. Department of Micro and Nanotechnology) ; Svendsen, W. (Technical University of Denmark. Department of Micro and Nanotechnology) ; Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Esteve Tinto, Jaume (Institut de Microelectrònica de Barcelona (IMB-CNM)) ; Figueras Costa, Eduardo (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Campabadal Segura, Francesca (Institut de Microelectrònica de Barcelona (IMB-CNM)) ; Montelius, L. (University of Lund. Solid State Physics and The Nanometer Consortium) ; Barniol i Beumala, Núria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Boisen, A. (Technical University of Denmark. Department of Micro and Nanotechnology) ; American Physical Society
Nanomechanical resonators have been monolithically integrated on preprocessed complementary metal-oxide-semiconductor(CMOS) chips. Fabricatedresonatorsystems have been designed to have resonance frequencies up to 1. [...]
2005 - 10.1063/1.1999838
Applied Physics Letters, Vol. 87, Issue 4 (July 2005) , p. 043507/1- 043507/3  
3.
4 p, 630.0 KB Modification of HF-treated silicon (100) surfaces by scanning tunneling microscopy in air under imaging conditions / Barniol i Beumala, Núria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Aymerich Humet, Xavier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física) ; American Physical Society
The modification of HF‐etched silicon (100) surface with a scanning tunneling microscope(STM) operated in air is studied for the first time in samples subjected to the standard HF etching without the follow‐up rinsing in H2O. [...]
1992 - 10.1063/1.107885
Applied Physics Letters, Vol. 61, Issue 4 (July 1992) , p. 462-464  
4.
4 p, 414.9 KB Local oxidation of silicon surfaces by dynamic force microscopy : nanofabrication and water bridge formation / García, Ricardo (Instituto de Microelectronica de Madrid) ; Calleja, M. (Instituto de Microelectronica de Madrid) ; Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; American Physical Society
Local oxidation of siliconsurfaces by atomic force microscopy is a very promising lithographic approach at nanometer scale. Here, we study the reproducibility, voltage dependence, and kinetics when the oxidation is performed by dynamic force microscopy modes. [...]
1998 - 10.1063/1.121340
Applied Physics Letters, Vol. 72, Issue 18 (May 1998) , p. 2295-2297  
5.
4 p, 392.4 KB Predictive model for scanned probe oxidation kinetics / Dagata, J. A. (National Institute of Standards and Technology (Gaithersburg, Estats Units d'Amèrica)) ; Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Abadal Berini, Gabriel (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Morimoto, K. (Matsushita Electrical Industrial (Osaka, Japó)) ; Inoue, T. (Electrotechnical Laboratory (Tsukuba, Japó)) ; Itoh, J. (Electrotechnical Laboratory (Tsukuba, Japó)) ; Yokoyama, H. (Electrotechnical Laboratory (Tsukuba, Japó)) ; American Physical Society
Previous descriptions of scanned probe oxidation kinetics involved implicit assumptions that one-dimensional, steady-state models apply for arbitrary values of applied voltage and pulse duration. These assumptions have led to inconsistent interpretations regarding the fundamental processes that contribute to control of oxide growth rate. [...]
2000 - 10.1063/1.126451
Applied Physics Letters, Vol. 76, Issue 19 (March 2000) , p. 2710-2712  
6.
4 p, 227.5 KB Measuring electrical current during scanning probe oxidation / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Martín Olmos, Cristina (Institut de Microelectrònica de Barcelona (IMB-CNM)) ; Barniol i Beumala, Núria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Enginyeria Electrònica) ; Kuramochi, H. (Nanotechnology Research Institute (Ibaraki, Japó)) ; Yokoyama, H. (Nanotechnology Research Institute (Ibaraki, Japó)) ; Dagata, J. A. (National Institute of Standards and Technology (Gaithersburg, Estats Units d'Amèrica)) ; American Physical Society
Electrical current is measured during scanning probe oxidation by performing force versus distance curves under the application of a positive sample voltage. It is shown how the time dependence of the current provides information about the kinetics of oxide growth under conditions in which the tip–surface distance is known unequivocally during current acquisition. [...]
2003 - 10.1063/1.1572480
Applied Physics Letters, Vol. 82, Issue 18 (April 2003) , p. 3086-3088  
7.
4 p, 279.2 KB STM-induced hydrogen desorption via a hole resonance / Stokbro, K. (Danmarks Tekniske Universitet. Mikroelektronik Centret) ; Thirstrup, C. (Surface and Interface Laboratory, RIKEN (Japó)) ; Sakurai, M. (Surface and Interface Laboratory, RIKEN (Japó)) ; Quaade, U. (Danmarks Tekniske Universitet. Mikroelektronik Centret) ; Yu-Kuang Hu, Ben (Danmarks Tekniske Universitet. Mikroelektronik Centret) ; Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Grey, F. (Danmarks Tekniske Universitet. Mikroelektronik Centret) ; American Physical Society
We report STM-induced desorption of H from Si(100)-H(2×1) at negative sample bias. The desorption rate exhibits a power-law dependence on current and a maximum desorption rate at −7V. The desorption is explained by vibrational heating of H due to inelastic scattering of tunneling holes with the Si-H 5σ hole resonance. [...]
1998 - 10.1103/PhysRevLett.80.2618
Physical review letters, Vol. 80, Issue 12 (March 1998) , p. 2618-2621  
8.
3 p, 435.4 KB Monolithic mass sensor fabricated using a conventional technology with attogram resolution in air conditions / Verd Martorell, Jaume (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Uranga del Monte, Aránzazu (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Abadal Berini, Gabriel (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Teva Meroño, Jordi (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Torres Canals, Francisco (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Fraxedas i Calduch, Jordi (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Esteve Tinto, Jaume (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Enginyeria Electrònica) ; Barniol i Beumala, Núria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; American Physical Society
Monolithic mass sensors for ultrasensitive mass detection in air conditions have been fabricated using a conventional 0. 35 μm complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) process. The mass sensors are based on electrostatically excited submicrometer scale cantilevers integrated with CMOS electronics. [...]
2007 - 10.1063/1.2753120
Applied Physics Letters, Vol. 91, Issue 1 (July 2007) , p. 013501/1-013501/3  

Us interessa rebre alertes sobre nous resultats d'aquesta cerca?
Definiu una alerta personal via correu electrònic o subscribiu-vos al canal RSS.