Resultats globals: 41 registres trobats en 0.01 segons.
Articles, 20 registres trobats
Documents de recerca, 11 registres trobats
Materials acadèmics, 10 registres trobats
Articles 20 registres trobats  1 - 10següent  anar al registre:
1.
29 p, 1.6 MB Self-assembly of block copolymers under nonisothermal annealing conditions as revealed by grazing-incidence small-angle X-ray scattering / Fernández Regúlez, Marta (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Solano, Eduardo (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Evangelio Araujo, Laura (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gottlieb, Steven (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Pinto-Gomez, Christian (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Rius, Gemma (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gutiérrez-Fernández, Edgar (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; Nogales, Aurora (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; García-Gutiérrez, Mari Cruz (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; Ezquerra, Tiberio A. (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
An accurate knowledge of the parameters governing the kinetics of block copolymer self-assembly is crucial to model the time- and temperature-dependent evolution of pattern formation during annealing as well as to predict the most efficient conditions for the formation of defect-free patterns. [...]
2020 - 10.1107/S1600577520009820
Journal of Synchrotron Radiation, Vol. 27, issue 5 (Sep. 2020) , p. 1278-1288  
2.
21 p, 5.3 MB Multi-frequency resonance behaviour of a Si fractal NEMS resonator / Tzanov, Vassil (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Llobet, Jordi (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Torres, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Pérez-Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Barniol, Nuria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Novel Si-based nanosize mechanical resonator has been top-down fabricated. The shape of the resonating body has been numerically derived and consists of seven star-polygons that form a fractal structure. [...]
2020 - 10.3390/nano10040811
Nanomaterials, Vol. 10, Issue 4 (April 2020) , art. 811  
3.
14 p, 1012.8 KB Quantification of nanomechanical properties of surfaces by higher harmonic monitoring in amplitude modulated AFM imaging / Gramazio, Federico (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Lorenzoni, Matteo (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Evangelio Araujo, Laura (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
The determination of nanomechanical properties is an intensive topic of study in several fields of nanophysics, from surface and materials science to biology. At the same time, amplitude modulation force microscopy is one of the most established techniques for nanoscale characterization. [...]
2018 - 10.1016/j.ultramic.2018.01.013
Ultramicroscopy, Vol. 187 (April 2018) , p. 20-25  
4.
39 p, 1.4 MB Role of penetrability into a brush-coated surface in directed self-assembly of block copolymers / Evangelio Araujo, Laura (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Fernández Regúlez, Marta (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Müller, Marcus (Georg-August University. Institute for Theoretical Physics) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
High-density and high-resolution line and space patterns on surfaces are obtained by directed self-assembly of lamella-forming block copolymers (BCPs) using wide-stripe chemical guiding patterns. When the width of the chemical pattern is larger than the half-pitch of the BCP, the interaction energy between each BCP domain and the surface is crucial to obtain the desired segregated film morphology. [...]
2019 - 10.1021/acsami.8b19062
ACS applied materials & interfaces, Vol. 11, issue 3 (Jan. 2019) , p. 3571-3581  
5.
6 p, 1.1 MB Evaluating the compressive stress generated during fabrication of Si doubly clamped nanobeams with AFM / Lorenzoni, Matteo (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Llobet Sixto, Jordi (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Gramazio, Federico (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Sansa Perna, Marc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
In this work, the authors employed Peak Force tapping and force spectroscopy to evaluate the stress generated during the fabrication of doubly clamped, suspended silicon nanobeams with rectangular section. [...]
2016 - 10.1116/1.4967930
Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics, Vol. 34, Issue 6 (November 2016) , art. 6KK02  
6.
7 p, 2.0 MB Replication of nanoscale surface gratings via injection molding / Muntada López, Olga (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Pina Estany, Jordi (Universitat Ramon Llull. Institut Químic de Sarrià-IQS) ; Colominas, Carles (Universitat Ramon Llull. Institut Químic de Sarrià-IQS) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; García Granada, Andrés (Universitat Ramon Llull. Institut Químic de Sarrià-IQS)
Nanostructured gratings fabricated on silicon chips have been successfully transferred to polypropylene plastic parts by means of injection molding. Different sets of experiments were carried out along with a repeatability analysis in order to study the effect in the replication of process parameters such as maximum injection pressure, injection time, charge and polymer temperature, geometric factors such as width and separation between lines of the gratings and flow direction as well as demolding conditions. [...]
2019 - 10.1016/j.mne.2019.03.003
Micro and Nano Engineering, Vol. 3 (May 2019) , p. 37-43  
7.
11 p, 3.8 MB Self-assembly morphology of block copolymers in sub-10 nm topographical guiding patterns / Gottlieb, Steven (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Rösner, Benedikt (Paul Scherrer Institut (Suïssa)) ; Evangelio Araujo, Laura (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fernández Regúlez, Marta (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Nogales, Aurora (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; García-Gutiérrez, Mari Cruz (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; Keller, Thomas F. (Universität Hamburg) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Ezquerra, Tiberio A. (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; David, Christian (Paul Scherrer Institut (Suïssa)) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
In this paper, we investigate the directed self-assembly of block copolymers in topographical guiding patterns with feature sizes in the range of the block copolymer half-pitch. In particular, we present the self-assembly of an 11. [...]
2019 - 10.1039/c8me00046h
Molecular systems design and engineering, Vol. 4, Issue 1 (February 2019) , p. 175-185  
8.
6 p, 1.5 MB Resonant tunnelling features in a suspended silicon nanowire single-hole transistor / Llobet Sixto, Jordi (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Krali, Emiljana (Imperial College London. Department of Electrical and Electronic Engineering) ; Wang, Chen (Imperial College London. Department of Electrical and Electronic Engineering) ; Arbiol i Cobos, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Jones, Mervyn E. (Imperial College London. Department of Electrical and Electronic Engineering) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Durrani, Zahid A. K. (Imperial College London. Department of Electrical and Electronic Engineering) ; ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró
Suspended silicon nanowires have significant potential for a broad spectrum of device applications. A suspended p-type Si nanowire incorporating Si nanocrystal quantum dots has been used to form a single-hole transistor. [...]
2015 - 10.1063/1.4936757
Applied physics letters, Vol. 107, issue 22 (Nov. 2015) , art. 223501  
9.
10 p, 2.5 MB A statistical analysis of nanocavities replication applied to injection moulding / Pina Estany, Jordi (Universitat Ramon Llull. Institut Químic de Sarrià-IQS) ; Colominas, Carles (Universitat Ramon Llull. Institut Químic de Sarrià-IQS) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Llobet Sixto, Jordi (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Puigoriol-Forcada, Josep Maria (Universitat Ramon Llull. Institut Químic de Sarrià-IQS) ; Ruso, D. (Flubetech SL) ; García Granada, Andrés (Universitat Ramon Llull. Institut Químic de Sarrià-IQS)
The purpose of this paper is to investigate both theoretically and experimentally how nanocavities are replicated in the injection moulding manufacturing process. The objective is to obtain a methodology for efficiently replicate nanocavities. [...]
2017 - 10.1016/j.icheatmasstransfer.2016.11.003
International communications in heat and mass transfer, Vol. 81 (Feb. 2017) , p. 131-140  
10.
10 p, 6.7 MB Identifying the nature of surface chemical modification for directed self-assembly of block copolymers / Evangelio Araujo, Laura (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gramazio, Federico (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Lorenzoni, Matteo (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Gorgoi, Michaela (Helmholtz-Zentrum Berlin. Energy Materials In-situ Laboratory) ; Espinosa, Francisco Miguel (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid) ; García, Ricardo (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid) ; Pérez-Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
In recent years, block copolymer lithography has emerged as a viable alternative technology for advanced lithography. In chemical-epitaxy-directed self-assembly, the interfacial energy between the substrate and each block copolymer domain plays a key role on the final ordering. [...]
2017 - 10.3762/bjnano.8.198
Beilstein journal of nanotechnology, Vol. 8 (Sep. 2017) , p. 1972-1981  

Articles : 20 registres trobats   1 - 10següent  anar al registre:
Documents de recerca 11 registres trobats  1 - 10següent  anar al registre:
1.
211 p, 16.9 MB Integration of vertical Single Electron Transistor into CMOS technology / Moral Cejudo, Alberto Jose del ; Amat Bertran, Esteve, dir. ; Pérez Murano, Francesc, dir.
Aquesta tesi presenta les investigacions realitzades cap a la integració de transistors verticals d'un sol electró (SET) en tecnologia metall-òxid-semiconductor complementari (CMOS). Dues de les principals motivacions de la indústria de semiconductors són la miniaturització de dispositius i la reducció del consum d'energia. [...]
Esta tesis presenta las investigaciones realizadas hacia la integración de transistores verticales de un solo electrón (SET) en tecnología metal-óxido-semiconductor complementario (CMOS). Dos de las principales motivaciones de la industria de semiconductores son la miniaturización de dispositivos y la reducción de consumo de energía. [...]
This thesis presents the investigations performed towards the integration of Single Electron Transistor (SET) into Complementary Metal-Oxide-Semiconductor (CMOS) technologies. Two of the main drives in semiconductor industry are device miniaturization and power consumption reduction. [...]

2021  
2.
201 p, 8.7 MB High-resolution guiding patterns for the directed self-assembly of block copolymers / Gottlieb, Steven ; Pérez Murano, Francesc, dir. ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica
The presented thesis entitled "High-resolution guiding patterns for the directed self-assembly of block copolymers" investigates strategies to introduce long-range order into block copolymer thin films for nanopatterning applications. [...]
2018  
3.
136 p, 2.0 MB Determination of nanomechanical properties of surfaces by atomic force microscopy using higher harmonics / Gramazio, Federico ; Fraxedas, Jordi, dir. ; Pérez Murano, Francesc, dir. ; Rodríguez-Viejo, Javier, dir. ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física
Esta tesis doctoral titulada "Determinación de las propiedades nanomecánicas de las superficies mediante microscopía de fuerza atómica utilizando armónicos superiores" trata de los problemas relacionados con la determinación de las propiedades mecánicas de los materiales a escala nanométrica. [...]
[Barcelona] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2018.  
4.
67 p, 7.0 MB Directed self-assembly of block copolymers on chemically nano-patterned surfaces / Evangelio Araujo, Laura ; Pérez Murano, Francesc, dir. ; Fraxedas, Jordi, dir. ; Bausells Roige, Joan, dir. ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Química
La tesi doctoral titulada "Auto-assemblatge de copolímers de bloc per modificació química de la superfície", presenta com a objectiu principal el desenvolupament, implementació i caracterització d'un mètode de guiatge de copolímers de bloc basat en la modificació química de la superfície. [...]
The thesis entitled "Directed self-assembly of block copolymers on chemically nano-patterned surfaces", aboard the challenge of the development, implementation and characterization of a chemical epitaxy process to direct self-assemble block copolymers. [...]

[Bellaterra] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2017.
3 documents
5.
117 p, 5.4 MB Focused ion beam implantation as a tool for the fabrication of nano electromechanical devices / Llobet Sixto, Jordi ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Borrisé, Xavier, dir. ; Sort Viñas, Jordi, tut. ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física
La tesi doctoral titulada "Focused ion beam implantation as a tool for the fabrication of nano electromechanical devices" aborda el repte de la fabricació de ressonadors nano-mètrics des d'una nova òptica basada en la implantació iònica mitjançant un feix de ions focalitzat (FIB). [...]
The thesis entitled "Focused ion beam implantation as a tool for the fabrication of nano electromechanical devices" aboard the challenge of the fabrication of nanometric resonators from a new approach based on ion implantation by a focused ion beam (FIB) . [...]

[Barcelona] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2016  
6.
191 p, 4.9 MB Fabrication methods for functional nanoparticles and interdigitated nanoelectrodes / Alayo Bueno, Nerea ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Valle Zafra, Manuel del, tut. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Química) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Química
Esta tesis presenta el desarrollo de nuevos métodos de nanofabricacion para la preparación de nanopartículas funcionales y electrodos interdigitados. El trabajo incluye el diseño, fabricación y caracterización de diferentes métodos que solucionan algunas de los retos que presenta la nanotechnología hoy en día. [...]
This thesis presents the development of novel nanofabrication methods for the preparation of functional nanoparticles and interdigitated nanoelectrodes. The work includes the design, fabrication and characterization of different approaches that overcome some of the current challenges in nanotechnology. [...]

[Barcelona] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2013  
7.
225 p, 3.1 MB Characterization of nanomechanical resonators based on silicon nanowires / Sansa Perna, Marc ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Barniol i Beumala, Núria, tut. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica
Els sensors de massa nanomecànics han atret un gran interès darrerament per la seva alta sensibilitat, que ve donada per les petites dimensions del ressonador que actua com a element sensor. Aquesta tesi tracta sobre la fabricació i caracterització de ressonadors nanomecànics per a aplicacions de sensat de massa. [...]
Nanomechanical mass sensors have attracted interest during the last years thanks to their unprecedented sensitivities, which arise from the small dimensions of the resonator which comprises the sensing element. [...]

[Barcelona] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2013  
8.
94 p, 7.7 MB Diseño de dispositivos optoelectrónicos integrados : métodos numéricos de simulación de la propagación de ondas electromagnéticas / Jiménez Jiménez, David (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
La tesis se centra en el desarrollo de metodos numéricos para simular la propagación del campo electromagnético en guías de onda, haciendo especial énfasis en la investigación de condiciones de frontera que permitan el flujo de las ondas radiadas hacia el exterior de la región de cálculo. [...]
Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2008  
9.
127 p, 5.8 MB Electron beam lithography for nanofabrication / Rius Suñé, Gemma ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Bausells Roige, Joan, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
La litografía por haz de electrones (Electron Beam Lithography, EBL) se ha consolidado como una de las técnicas más eficaces que permiten definir motivos en el rango nanométrico. Su implantación ha permitido la nanofabricación de estructuras y dispositivos para su uso en el campo de la nanotecnología y la nanociencia. [...]
Electron beam lithography (EBL) has consolidated as one of the most common techniques for patterning at the nanoscale meter range. It has enabled the nanofabrication of structures and devices within the research field of nanotechnology and nanoscience. [...]

Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2008
2 documents
10.
74 p, 5.4 MB Integration of nanomechanical sensors on CMOS by nanopatterning methods / Arcamone, Julien ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Brémond, Georges, dir. (Centre National de la Recherche Scientifique (França))
La presente tesis ha sido realizada principalmente en el Centro Nacional de Microelectrónica de Barcelona (CNM-IMB) del CSIC, y en parte también en el Instituto de Nanotecnología de Lyon (Francia) del CNRS. [...]
This thesis has been a co-direction between Dr. F. Pérez-Murano from CNM-CSIC, Barcelona (Spain) and Pr. G. Brémond from INSA Lyon/INL-CNRS (France). This work involves two main aspects: one has to see with the modeling, the design and the operation of a nanomechanical device integrated on CMOS, and the other on nanofabrication techniques. [...]

Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2007
4 documents

Documents de recerca : 11 registres trobats   1 - 10següent  anar al registre:
Materials acadèmics 10 registres trobats  
1.
4 p, 100.3 KB Nanofabricació Avançada [43439] / Pérez Murano, Francesc ; Torres Canals, Francesc ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
- Donar a conèixer en profunditat el mètodes més habituals de nanoestructuració de superfícies. - Conèixer en detall les prestacions i limitacions dels principals mètodes de litografia. - Capacitar l'alumne per dissenyar un procés complert de fabricació de dispositius i nanoestructures. [...]
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]
- Conocer en profundidad los métodos más comunes de nanoestructuración de superficies. - Comprender en detalle el rendimiento y las limitaciones de los principales métodos de litografía. - Capacitar a los estudiantes para diseñar un proceso de fabricación de dispositivos y nanoestructuras. [...]

2021-22
Màster Universitari en Nanociència i Nanotecnologia Avançades/ Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1360]
3 documents
2.
3 p, 99.1 KB Nanofabricació Avançada [43439] / Pérez Murano, Francesc ; Torres Canals, Francesc ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
- Donar a conèixer en profunditat el mètodes més habituals de nanoestructuració de superfícies. - Conèixer en detall les prestacions i limitacions dels principals mètodes de litografia. - Capacitar l'alumne per dissenyar un procés complert de fabricació de dispositius i nanoestructures. [...]
- Conocer en profundidad los métodos más comunes de nanoestructuración de superficies. - Comprender en detalle el rendimiento y las limitaciones de los principales métodos de litografía. - Capacitar a los estudiantes para diseñar un proceso de fabricación de dispositivos y nanoestructuras. [...]

2020-21
Màster Universitari en Nanociència i Nanotecnologia Avançades/ Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1360]
3 documents
3.
3 p, 71.3 KB Nanofabricació Avançada [43439] / Pérez Murano, Francesc ; Benítez Almarza, Maria Ángeles ; Torres Canals, Francesc ; Evangelio Araujo, Laura ; Borrisé, Xavier ; Rius Suñé, Gemma ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]
2018-19
Màster Universitari en Nanociència i Nanotecnologia Avançades/ Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1360]  
4.
3 p, 71.1 KB Nanofabricació Avançada [43439] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Benítez Almarza, Maria Ángeles ; Torres Canals, Francisco (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Evangelio Araujo, Laura ; Borrisé, Xavier ; Rius Suñé, Gemma ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]
2017-18
Màster Universitari en Nanociència i Nanotecnologia Avançades/ Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1360]  
5.
5 p, 82.4 KB Nanofabricació [103306] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
L'objectiu del mòdul és donar a conèixer les tècniques i mètodes que existeixen de fabricació a escala micro- i nanomètrica, de manera que l'alumne queda capacitat per definir una seqüència adient de processos per a la realització de qualsevol tipus de dispositiu o estructura funcional. [...]
2017-18
Grau en Nanociència i Nanotecnologia [983]  
6.
3 p, 71.2 KB Nanofabricació Avançada [43439] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]
2016-17
Màster Universitari en Nanociència i Nanotecnologia Avançades/ Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1360]  
7.
5 p, 82.4 KB Nanofabricació [103306] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
L'objectiu del mòdul és donar a conèixer les tècniques i mètodes que existeixen de fabricació a escala micro- i nanomètrica, de manera que l'alumne queda capacitat per definir una seqüència adient de processos per a la realització de qualsevol tipus de dispositiu o estructura funcional. [...]
2016-17
Grau en Nanociència i Nanotecnologia [983]  
8.
5 p, 29.4 KB Nanofabricació [103306] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
L'objectiu del mòdul és donar a conèixer les tècniques i mètodes que existeixen de fabricació a escala micro- i nanomètrica, de manera que l'alumne queda capacitat per definir una seqüència adient de processos per a la realització de qualsevol tipus de dispositiu o estructura funcional. [...]
2015-16
Grau en Nanociència i Nanotecnologia [983]  
9.
3 p, 99.5 KB Nanofabricació Avançada [43439] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
Donar a conèixer en profunditat el mètodes més habituals de nanoestructuració de superfícies. Conèixer en detall les prestacions i limitacions dels principals mètodes de litografia. Capacitar l'alumne per dissenyar un procés complert de fabricació de dispositius i nanoestructures. [...]
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]

2014-15
Nanociència i Nanotecnologia Avançades / Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1276]
2 documents
10.
5 p, 106.4 KB Nanofabricació [103306] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
L'objectiu del mòdul és donar a conèixer les tècniques i mètodes que existeixen de fabricació a escala micro- i nanomètrica, de manera que l'alumne queda capacitat per definir una seqüència adient de processos per a la realització de qualsevol tipus de dispositiu o estructura funcional. [...]
2014-15
Grau en Nanociència i Nanotecnologia [983]  

Us interessa rebre alertes sobre nous resultats d'aquesta cerca?
Definiu una alerta personal via correu electrònic o subscribiu-vos al canal RSS.