Resultados globales: 4 registros encontrados en 0.02 segundos.
Artículos, Encontrados 1 registros
Documentos de investigación, Encontrados 1 registros
Materiales académicos, Encontrados 2 registros
Artículos Encontrados 1 registros  
1.
21 p, 1.9 MB High-resolution mapping of infraslow cortical brain activity enabled by graphene microtransistors / Masvidal Codina, Eduard (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Illa Vila, Xavier (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Dasilva, Miguel (Institut d'Investigacions Biomèdiques August Pi i Sunyer) ; Bonaccini Calia, Andrea (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Dragojević, Tanja (ICFO-Institut de Ciéncies Fotòniques) ; Vidal Rosas, Ernesto E. (ICFO-Institut de Ciéncies Fotòniques) ; Prats Alfonso, Elisabet (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Martínez Aguilar, Javier (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; De la Cruz Sánchez, José M. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Garcia Cortadella, Ramon (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Godignon, Philippe (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Rius Suñé, Gemma (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Camassa, Alessandra (Institut d'Investigacions Biomèdiques August Pi i Sunyer) ; Del Corro Garcia, Elena (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Bousquet, Jessica (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Hébert, Clement (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Durduran, Turgut (Institució Catalana de Recerca i Estudis Avançats) ; Villa, Rosa (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Sánchez-Vives, María V. (Institució Catalana de Recerca i Estudis Avançats) ; Garrido Ariza, José A. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Guimerà Brunet, Anton (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
Recording infraslow brain signals (<0. 1 Hz) with microelectrodes is severely hampered by current microelectrode materials, primarily due to limitations resulting from voltage drift and high electrode impedance. [...]
2019 - 10.1038/s41563-018-0249-4
Nature materials, Vol. 18, Núm. 3 (March 2019) , p. 280-288
2 documentos

Documentos de investigación Encontrados 1 registros  
1.
127 p, 5.8 MB Electron beam lithography for nanofabrication / Rius Suñé, Gemma ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Bausells Roige, Joan, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
La litografía por haz de electrones (Electron Beam Lithography, EBL) se ha consolidado como una de las técnicas más eficaces que permiten definir motivos en el rango nanométrico. Su implantación ha permitido la nanofabricación de estructuras y dispositivos para su uso en el campo de la nanotecnología y la nanociencia. [...]
Electron beam lithography (EBL) has consolidated as one of the most common techniques for patterning at the nanoscale meter range. It has enabled the nanofabrication of structures and devices within the research field of nanotechnology and nanoscience. [...]

Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2008
2 documentos

Materiales académicos Encontrados 2 registros  
1.
3 p, 71.3 KB Advanced Nanomanufacturing [43439] / Pérez Murano, Francesc ; Benítez Almarza, Maria Ángeles ; Torres Canals, Francesc ; Evangelio Araujo, Laura ; Borrise Nogué, Xavier ; Rius Suñé, Gemma ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]
2018-19
Màster Universitari en Nanociència i Nanotecnologia Avançades/ Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1360]  
2.
3 p, 71.1 KB Advanced Nanomanufacturing [43439] / Pérez Murano, Francesc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Benítez Almarza, Maria Ángeles ; Torres Canals, Francisco (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Evangelio Araujo, Laura ; Borrise Nogué, Xavier ; Rius Suñé, Gemma ; Universitat Autònoma de Barcelona. Facultat de Ciències
• To know in depth the most common methods of nanostructuring of surfaces. • Understand in detail the performance and limitations of the main methods of lithography. • To enable students to design a process for the fabrication of devices and nanostructures. [...]
2017-18
Màster Universitari en Nanociència i Nanotecnologia Avançades/ Advanced Nanoscience and Nanotechnology [1360]  

¿Le interesa recibir alertas sobre nuevos resultados de esta búsqueda?
Defina una alerta personal vía correo electrónico o subscríbase al canal RSS.