Pàgina inicial > Resultats de la cerca: Block copolymer self-assembly
  Consells de cerca
Cerca avançada
Cerca col·leccions:
Ordena'ls per: Mostrar els resultats: Format de visualizació:
Resultats globals: 5 registres trobats en 0.02 segons.
Articles, 4 registres trobats
Documents de recerca, 1 registres trobats
Articles 4 registres trobats  
1.
29 p, 1.6 MB Self-assembly of block copolymers under nonisothermal annealing conditions as revealed by grazing-incidence small-angle X-ray scattering / Fernández Regúlez, Marta (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Solano, Eduardo (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Evangelio Araujo, Laura (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gottlieb, Steven (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Pinto-Gomez, Christian (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Rius, Gemma (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gutiérrez-Fernández, Edgar (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; Nogales, Aurora (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; García-Gutiérrez, Mari Cruz (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; Ezquerra, Tiberio A. (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
An accurate knowledge of the parameters governing the kinetics of block copolymer self-assembly is crucial to model the time- and temperature-dependent evolution of pattern formation during annealing as well as to predict the most efficient conditions for the formation of defect-free patterns. [...]
2020 - 10.1107/S1600577520009820
Journal of Synchrotron Radiation, Vol. 27, issue 5 (Sep. 2020) , p. 1278-1288  
Registre complet -
2.
39 p, 1.4 MB Role of penetrability into a brush-coated surface in directed self-assembly of block copolymers / Evangelio Araujo, Laura (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Fernández Regúlez, Marta (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Müller, Marcus (Georg-August University. Institute for Theoretical Physics) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
High-density and high-resolution line and space patterns on surfaces are obtained by directed self-assembly of lamella-forming block copolymers (BCPs) using wide-stripe chemical guiding patterns. When the width of the chemical pattern is larger than the half-pitch of the BCP, the interaction energy between each BCP domain and the surface is crucial to obtain the desired segregated film morphology. [...]
2019 - 10.1021/acsami.8b19062
ACS applied materials & interfaces, Vol. 11, issue 3 (Jan. 2019) , p. 3571-3581  
Registre complet -
3.
11 p, 3.8 MB Self-assembly morphology of block copolymers in sub-10 nm topographical guiding patterns / Gottlieb, Steven (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Rösner, Benedikt (Paul Scherrer Institut (Suïssa)) ; Evangelio Araujo, Laura (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fernández Regúlez, Marta (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Nogales, Aurora (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; García-Gutiérrez, Mari Cruz (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; Keller, Thomas F. (Universität Hamburg) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Ezquerra, Tiberio A. (Consejo Superior de Investigaciones Científicas (Espanya). Instituto de Estructura de la Materia) ; David, Christian (Paul Scherrer Institut (Suïssa)) ; Pérez Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
In this paper, we investigate the directed self-assembly of block copolymers in topographical guiding patterns with feature sizes in the range of the block copolymer half-pitch. In particular, we present the self-assembly of an 11. [...]
2019 - 10.1039/c8me00046h
Molecular systems design and engineering, Vol. 4, Issue 1 (February 2019) , p. 175-185  
Registre complet - Creative Commons
4.
10 p, 6.7 MB Identifying the nature of surface chemical modification for directed self-assembly of block copolymers / Evangelio Araujo, Laura (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gramazio, Federico (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Lorenzoni, Matteo (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Gorgoi, Michaela (Helmholtz-Zentrum Berlin. Energy Materials In-situ Laboratory) ; Espinosa, Francisco Miguel (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid) ; García, Ricardo (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid) ; Pérez-Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
In recent years, block copolymer lithography has emerged as a viable alternative technology for advanced lithography. In chemical-epitaxy-directed self-assembly, the interfacial energy between the substrate and each block copolymer domain plays a key role on the final ordering. [...]
2017 - 10.3762/bjnano.8.198
Beilstein journal of nanotechnology, Vol. 8 (Sep. 2017) , p. 1972-1981  
Registre complet - Creative Commons

Documents de recerca 1 registres trobats  
1.
67 p, 7.0 MB Directed self-assembly of block copolymers on chemically nano-patterned surfaces / Evangelio Araujo, Laura ; Pérez Murano, Francesc, dir. ; Fraxedas, Jordi, dir. ; Bausells Roige, Joan, dir. ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Química
La tesi doctoral titulada "Auto-assemblatge de copolímers de bloc per modificació química de la superfície", presenta com a objectiu principal el desenvolupament, implementació i caracterització d'un mètode de guiatge de copolímers de bloc basat en la modificació química de la superfície. [...]
The thesis entitled "Directed self-assembly of block copolymers on chemically nano-patterned surfaces", aboard the challenge of the development, implementation and characterization of a chemical epitaxy process to direct self-assemble block copolymers. [...]
[Bellaterra] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2017.
3 documents
Registre complet - Creative Commons

Us interessa rebre alertes sobre nous resultats d'aquesta cerca?
Definiu una alerta personal via correu electrònic o subscribiu-vos al canal RSS.
Dipòsit Digital de Documents de la UAB :: Cerca :: Lliura :: Personalitza :: Ajuda
Powered by Invenio v1.1.6
Mantingut per ddd.bib@uab.cat  :: Metadades subjectes a:
Col·laborem