Pàgina inicial > Resultats de la cerca: Metrology
  Consells de cerca
Cerca avançada
Cerca col·leccions:
Ordena'ls per: Mostrar els resultats: Format de visualizació:
Resultats globals: 7 registres trobats en 0.01 segons.
Articles, 6 registres trobats
Documents de recerca, 1 registres trobats
Articles 6 registres trobats  
1.
10 p, 1.0 MB Quantum measurement optimization by decomposition of measurements into extremals / Martínez-Vargas, Esteban (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física) ; Pineda, Carlos (Universidad Nacional Autónoma de México. Instituto de Física) ; Barberis-Blostein, Pablo (Universidad Nacional Autónoma de México. Instituto de Investigaciones en Matemáticas Aplicadas y en Sistemas)
Using the convex structure of positive operator value measurements and several quantities used in quantum metrology, such as quantum Fisher information or the quantum Van Trees information, we present an efficient numerical method to find the best strategy allowed by quantum mechanics to estimate a parameter. [...]
2020 - 10.1038/s41598-020-65934-w
Scientific reports, Vol. 10 (June 2020) , art. 9375  
Registre complet - Creative Commons
2.
9 p, 957.5 KB Defects in nano-imprint lithography line patterns : computational modelling and measurement accuracy / Constantoudis, Vassilios (Institute of Nanoscience and Nanotechnology (Grècia)) ; Whitworth, Guy L. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Kehagias, Nikolaos (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Papavieros, George (Aristotle University of Thessaloniki. Physics Department) ; Sotomayor Torres, Clivia M. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gogolides, Evangelos (Institute of Nanoscience and Nanotechnology (Grècia))
NIL patterns frequently suffer from the presence of defects such as missing lines or dots which degrade their properties and functionality. Due to their low density and nanosize, the measurement of their fraction is challenging nanometrology trade-off between resolution and measurement range. [...]
2019 - 10.1117/12.2523931
Proceedings of SPIE, Vol. 10958 (2019) , art. 109581K  
Registre complet -
3.
21 p, 1.4 MB Probabilistic metrology or how some measurement outcomes render ultra-precise estimates / Calsamiglia Costa, John (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física) ; Gendra Casalí, Bernat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física) ; Muñoz Tapia, Ramon (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física) ; Bagán Capella, Emili (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física)
We show on theoretical grounds that, even in the presence of noise, probabilistic measurement strategies (which have a certain probability of failure or abstention) can provide, upon a heralded successful outcome, estimates with a precision that exceeds the deterministic bounds for the average precision. [...]
2016 - 10.1088/1367-2630/18/10/103049
New journal of physics, Vol. 18 (October 2016) , art. 103049  
Registre complet - Creative Commons
4.
7 p, 1.5 MB In-line metrology for roll-to-roll UV assisted nanoimprint lithography using diffractometry / Kreuzer, Martin (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Whitworth, Guy L. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Francone, Achille (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gomis-Bresco, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Kehagias, Nikolaos (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Sotomayor Torres, Clivia M. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
We describe and discuss the optical design of a diffractometer to carry out in-line quality control during roll-to-roll nanoimprinting. The tool measures diffractograms in reflection geometry, through an aspheric lens to gain fast, non-invasive information of any changes to the critical dimensions of target grating structures. [...]
2018 - 10.1063/1.5011740
APL materials, Vol. 6, Issue 5 (May 2018) , art. 58502  
Registre complet - Creative Commons
5.
8 p, 415.9 KB Phonon attenuation in the GHz regime : Measurements and simulations with a visco-elastic material model / Bryner, Juerg (ETH Zürich. Institute of Mechanical Systems) ; Kehoe, Timothy (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Vollmann, Jacqueline (ETH Zürich. Institute of Mechanical Systems) ; Aebi, Laurent (ETH Zürich. Institute of Mechanical Systems) ; Wenke, Ingo (ETH Zürich. Institute of Mechanical Systems) ; Dual, Jurg (ETH Zürich. Institute of Mechanical Systems)
Aluminum and PMMA thin film samples are investigated regarding their mechanical properties like speed of sound and attenuation. Aluminum is often used as a transducer layer for pump probe laser measurements and different PMMA types have a large importance in the nanoimprinting technique. [...]
2010 - 10.1016/j.phpro.2010.01.045
Physics Procedia, Vol. 3, Issue 1 (January 2010) , p. 343-350  
Registre complet - Creative Commons
6.
9 p, 1.3 MB Functional dependence of resonant harmonics on nanomechanical parameters in dynamic mode atomic force microscopy / Gramazio, Federico (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Lorenzoni, Matteo (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Pérez-Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona) ; Rull Trinidad, Enrique (Technische Universiteit Delft) ; Staufer, Urs (Technische Universiteit Delft) ; Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
We present a combined theoretical and experimental study of the dependence of resonant higher harmonics of rectangular cantilevers of an atomic force microscope (AFM) as a function of relevant parameters such as the cantilever force constant, tip radius and free oscillation amplitude as well as the stiffness of the sample's surface. [...]
2017 - 10.3762/bjnano.8.90
Beilstein journal of nanotechnology, Vol. 8 (April 2017) , p. 883-891  
Registre complet - Creative Commons

Documents de recerca 1 registres trobats  
1.
219 p, 6.2 MB Desenvolupament d'algorismes numérics per al càlcul de la topografia dels miralls per a un sincrotró / Vidal González, Josep ; Campos Coloma, Juan, dir. ; Nicolás, Josep, dir. ; Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Física
La mesura de superfícies òptiques ha esdevingut un camp d'investigació molt important en els últims anys. En els sincrotrons es necessiten òptiques que tinguin una precisió en l'ordre del nanòmetre per tal d'assolir la brillantor necessària en les investigacions. [...]
Measuring optic surfaces is a research field very important, specially in the last 20 years. Synchrotrons need optics with an accuracy of the nonemeter for achieving the brilliance needed in the beamlines. [...]
[Barcelona] : Universitat Autònoma de Barcelona, 2015  
Registre complet -

Us interessa rebre alertes sobre nous resultats d'aquesta cerca?
Definiu una alerta personal via correu electrònic o subscribiu-vos al canal RSS.
Dipòsit Digital de Documents de la UAB :: Cerca :: Lliura :: Personalitza :: Ajuda
Powered by Invenio v1.1.6
Mantingut per ddd.bib@uab.cat  :: Metadades subjectes a:
Col·laborem