Pàgina inicial > Resultats de la cerca: Resistive switching (RS)
  Consells de cerca
Cerca avançada
Cerca col·leccions:
Ordena'ls per: Mostrar els resultats: Format de visualizació:
Resultats globals: 2 registres trobats en 0.03 segons.
Articles, 2 registres trobats
Articles 2 registres trobats  
1.
7 p, 481.4 KB Experimental time evolution study of the HfO2-based IMPLY gate operation / Maestro Izquierdo, Marcos (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Martin Martinez, Javier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Crespo Yepes, Albert (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Escudero, Manel (Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Rodríguez Martínez, Rosana (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Aymerich Humet, Xavier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Rubio, Antonio 1954- (Universitat Politècnica de Catalunya. Departament d'Enginyeria Electrònica)
In the last years, memristor devices have been proposed as key elements to develop a new paradigm to implement logic gates. In particular, the memristor-based material implication (IMPLY) gate has been presented as a potential powerful basis for logic applications. [...]
2018 - 10.1109/TED.2017.2778315
IEEE Transactions on Electron Devices, Vol. 65, issue 2 (Feb. 2018) , p. 404-410  
Registre complet -
2.
30 p, 3.6 MB Conductance quantization in resistive random access memory / Li, Yang (Chinese Academy of Sciences. Institute of Microelectronics (Beijing)) ; Long, Shibing (Chinese Academy of Sciences. Institute of Microelectronics (Beijing)) ; Liu, Yang (University of Science and Technology Beijing. Department of Materials Physics and Chemistry) ; Hu, Chen (University of Science and Technology Beijing. Department of Materials Physics and Chemistry) ; Teng, Jiao (University of Science and Technology Beijing. Department of Materials Physics and Chemistry) ; Liu, Qi (Chinese Academy of Sciences. Institute of Microelectronics (Beijing)) ; Lv, Hangbing (Chinese Academy of Sciences. Institute of Microelectronics (Beijing)) ; Suñé, Jordi 1963- (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Liu, Ming (Chinese Academy of Sciences. Institute of Microelectronics (Beijing))
The intrinsic scaling-down ability, simple metal-insulator-metal (MIM) sandwich structure, excellent performances, and complementary metal-oxide-semiconductor (CMOS) technology-compatible fabrication processes make resistive random access memory (RRAM) one of the most promising candidates for the next-generation memory. [...]
2015 - 10.1186/s11671-015-1118-6
Nanoscale Research Letters, Vol. 10 (December 2015) , art. 420  
Registre complet - Creative Commons

Us interessa rebre alertes sobre nous resultats d'aquesta cerca?
Definiu una alerta personal via correu electrònic o subscribiu-vos al canal RSS.
Dipòsit Digital de Documents de la UAB :: Cerca :: Lliura :: Personalitza :: Ajuda
Powered by Invenio v1.1.6
Mantingut per ddd.bib@uab.cat  :: Metadades subjectes a:
Col·laborem