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13 p, 1.2 MB Acoustic phonon propagation in ultra-thin Si membranes under biaxial stress field / Graczykowski, Bartlomiej (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Gomis-Bresco, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Alzina, Francesc (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Reparaz, Juan Sebastian (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Shchepetov, Andrey (VTT Technical Research Centre of Finland) ; Prunnila, Mika (VTT Technical Research Centre of Finland) ; Ahopelto, Jouni (VTT Technical Research Centre of Finland) ; Sotomayor Torres, Clivia M. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
We report on stress induced changes in the dispersion relations of acoustic phonons propagating in 27 nm thick single crystalline Si membranes. The static tensile stress (up to 0. 3 GPa) acting on the Si membranes was achieved using an additional strain compensating silicon nitride frame. [...]
2014 - 10.1088/1367-2630/16/7/073024
New journal of physics, Vol. 16 (July 2014) , art. 73024  
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