Depósito Digital de Documentos de la UAB Encontrados 3 registros  La búsqueda tardó 0.01 segundos. 
1.
5 p, 602.1 KB 3C-SiC Transistor with Ohmic Contacts Defined at Room Temperature / Li, Fan (University of Warwick) ; Sharma, Yogesh (University of Warwick) ; Walker, David (University of Warwick) ; Hindmarsh, Steven (University of Warwick) ; Jennings, Mike (University of Warwick) ; Martin, David (University of Warwick) ; Fisher, Craig (University of Warwick) ; Gammon, Peter (University of Warwick) ; Pérez Tomàs, Amador (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Mawby, Phil (University of Warwick)
Among all SiC polytypes, only 3C-SiC has a cubic structure and can be hetero-epitaxial grown on large area Si substrate, thus providing an alternative choice for fabricating cheap wide bandgap power devices. [...]
2016 - 10.1109/LED.2016.2593771
IEEE electron device letters, Vol. 37, Issue 9 (September 2016) , p. 1189-1192  
2.
4 p, 3.8 MB Conductance of threading dislocations in InGaAs/Si stacks by temperature-CAFM measurements / Couso, C. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Iglesias, V. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Porti i Pujal, Marc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Claramunt, S. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Domingo Marimon, Neus (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Cordes, A. (SEMATECH, United States) ; G. Bersuker (The Aerospace Corporation, United States)
2016 - 10.1109/LED.2016.2537051
IEEE electron device letters, Vol. 37, Issue 5 (May 2016) , p. 640-643  
3.
3 p, 1.0 MB Recovery of the MOSFET and circuit functionality after the dielectric breakdown of ultra-thin high-k gate stacks / Crespo Yepes, Albert (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Martín Martínez, Javier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Rothschild, A. (Interuniversity Micro-Electronics Center) ; Rodríguez Martínez, Rosana (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Aymerich Humet, Xavier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
The reversibility of the gate dielectric breakdown in ultra-thin high-k dielectric stacks is reported and analyzed. The electrical performance of MOSFETs after the dielectric recovery is modeled and introduced in a circuit simulator. [...]
2010 - 10.1109/LED.2010.2045732
IEEE electron device letters, Vol. 31, Issue 6 (June 2010) , p. 543-545  

¿Le interesa recibir alertas sobre nuevos resultados de esta búsqueda?
Defina una alerta personal vía correo electrónico o subscríbase al canal RSS.