Pàgina inicial > Resultats de la cerca: Electron beam lithography for nanofabrication /
  Consells de cerca
Cerca avançada
Cerca col·leccions:
Ordena'ls per: Mostrar els resultats: Format de visualizació:

Warning: Ignoring empty title search term.
Resultats globals: 1 registres trobats en 0.03 segons.
Documents de recerca, 1 registres trobats
Documents de recerca 1 registres trobats  
1.
127 p, 5.8 MB Electron beam lithography for nanofabrication / Rius, Gemma ; Pérez Murano, Francesc, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Bausells Roige, Joan, dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
La litografía por haz de electrones (Electron Beam Lithography, EBL) se ha consolidado como una de las técnicas más eficaces que permiten definir motivos en el rango nanométrico. Su implantación ha permitido la nanofabricación de estructuras y dispositivos para su uso en el campo de la nanotecnología y la nanociencia. [...]
Electron beam lithography (EBL) has consolidated as one of the most common techniques for patterning at the nanoscale meter range. It has enabled the nanofabrication of structures and devices within the research field of nanotechnology and nanoscience. [...]
Bellaterra : Universitat Autònoma de Barcelona, 2008
2 documents
Registre complet -

Us interessa rebre alertes sobre nous resultats d'aquesta cerca?
Definiu una alerta personal via correu electrònic o subscribiu-vos al canal RSS.
Dipòsit Digital de Documents de la UAB :: Cerca :: Lliura :: Personalitza :: Ajuda
Powered by Invenio v1.1.6
Mantingut per ddd.bib@uab.cat  :: Metadades subjectes a:
Col·laborem