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27 p, 1.3 MB Neutral organic radical formation by chemisorption on metal surfaces / Ajayakumar, M. R. (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Moreno, Cesar (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Alcón, Isaac (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Illas, Francesc (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Rovira Angulo, Concepció (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Veciana i Miró, Jaume (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Bromley, Stefan (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Mugarza, Aitor (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Mas-Torrent, Marta (Institut de Ciència de Materials de Barcelona)
Organic radical monolayers (r-MLs) bonded to metal surfaces are potential materials for the development of molecular (spin)electronics. Typically, stable radicals bearing surface anchoring groups are used to generate r-MLs. [...]
2020 - 10.1021/acs.jpclett.0c00269
Journal of physical chemistry letters, Vol. 11, issue 10 (May 2020) , p. 3897-3904  
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3 Ajayakumar, M. R.
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