Tuning the Néel temperature in an antiferromagnet : the case of NiCoO microstructures
Mandziak, Anna (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró)
D. Soria, Guiomar (Instituto de Química Física "Rocasolano")
Prieto, José Emilio (Instituto de Química Física "Rocasolano")
Prieto, Pilar (Universidad Autónoma de Madrid. Departamento de Física Aplicada)
Granados-Miralles, Cecilia (Instituto de Cerámica y Vidrio (CSIC))
Quesada, Adrian (Instituto de Cerámica y Vidrio (CSIC))
Foerster, Michael (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró)
Aballe, Lucía (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró)
de la Figuera, Juan (Instituto de Química Física "Rocasolano")

Fecha:	2019
Resumen:	We show that it is possible to tune the Néel temperature of nickel(II)-cobalt(II) oxide films by changing the Ni to Co ratio. We grow single crystalline micrometric triangular islands with tens of nanometers thickness on a Ru(0001) substrate using high temperature oxygen-assisted molecular beam epitaxy. Composition is controlled by adjusting the deposition rates of Co and Ni. The morphology, shape, crystal structure and composition are determined by low-energy electron microscopy and diffraction, and synchrotron-based x-ray absorption spectromicroscopy. The antiferromagnetic order is observed by x-ray magnetic linear dichroism. Antiferromagnetic domains up to micrometer width are observed.
Ayudas:	Ministerio de Economía y Competitividad MAT2015-64110-C2-1-P Ministerio de Economía y Competitividad MAT2015-64110-C2-2-P Agencia Estatal de Investigación RTI2018-095303-B-C51 Agencia Estatal de Investigación RTI2018-095303-B-C53 European Commission 720853
Derechos:	Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, la comunicació pública de l'obra i la creació d'obres derivades, fins i tot amb finalitats comercials, sempre i quan es reconegui l'autoria de l'obra original.
Lengua:	Anglès
Documento:	Article ; recerca ; Versió publicada
Materia:	Magnetic properties and materials ; Information storage ; Structural properties ; Surfaces, interfaces and thin films
Publicado en:	Scientific reports, Vol. 9 (September 2019) , art. 13584, ISSN 2045-2322

DOI: 10.1038/s41598-019-49642-8
PMID: 31537821

8 p, 2.9 MB

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