Lateral Magnetically Modulated Multilayers by Combining Ion Implantation and Lithography - Menéndez Dalmau, Enric (Katholieke Universiteit te Leuven (1970- )) ; Modarresi, Hiwa (Katholieke Universiteit te Leuven (1970- )) ; Petermann, Claire (Katholieke Universiteit te Leuven (1970- )) ; Nogués, Josep (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Domingo Marimon, Neus (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Liu, Haoliang (Katholieke Universiteit te Leuven (1970- )) ; Kirby, Brian (Brian J.) (NNational Institute of Standards and Technology (Gaithersburg, Estats Units d'Amèrica)) ; Mohd, Amir Syed (Jülich Centre for Neutron Science (Jülich, Alemanya)) ; Salhi, Zahir (Jülich Centre for Neutron Science (Jülich, Alemanya)) ; Babcock, Earl (Jülich Centre for Neutron Science (Jülich, Alemanya)) ; Mattauch, Stephan (Jülich Centre for Neutron Science (Jülich, Alemanya)) ; Van Haesendonck, Chris (Katholieke Universiteit te Leuven (1970- )) ; Vantomme, André (Katholieke Universiteit te Leuven (1970- )) ; Temst, Kristiaan (Katholieke Universiteit te Leuven (1970- ))
 
Comentaris (0) | Ressenyes (0)
Sigueu el primer a escriure una ressenya d'aquest document.

Afegiu la vostra ressenya

Valoreu aquest article:
Doneu un títol a la vostra ressenya:
Escriviu la vostra ressenya:
Vigileu: encara no heu definit el vostre àlies.
N/D s'usarà temporalment com a autor d'aquest comentari.