Neutral organic radical formation by chemisorption on metal surfaces - Ajayakumar, M. R. (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Moreno, Cesar (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Alcón, Isaac (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Illas, Francesc (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Rovira Angulo, Concepció (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Veciana i Miró, Jaume (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Bromley, Stefan (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Mugarza, Aitor (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Mas-Torrent, Marta (Institut de Ciència de Materials de Barcelona)
 
Comentarios (0) | Reseñas (0)
Inicie un debate sobre cualquier aspecto de este documento.

 Subscribirse to this discussion. You will then receive all new comments by email.

Añadir comentario


Una vez identificados, los usuarios autorizados también pueden añadir ficheros.
Atención: todavía no ha definido su alias.
N/D, será el que se muestre como autor de este comentario
          You can use some HTML tags: <a href>, <strong>, <blockquote>, <br />, <p>, <em>, <ul>, <li>, <b>, <i>