Neutral organic radical formation by chemisorption on metal surfaces - Ajayakumar, M. R. (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Moreno, Cesar (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Alcón, Isaac (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Illas, Francesc (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Rovira Angulo, Concepció (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Veciana i Miró, Jaume (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Bromley, Stefan (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Mugarza, Aitor (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Mas-Torrent, Marta (Institut de Ciència de Materials de Barcelona)
 
Comentarios (0) | Reseñas (0)
Sea el primero a escribir una reseña de este documento.

Añada su reseña

Valore este artículo:
Dé un título a su reseña:
Escriba su reseña:
Atención: todavía no ha definido su alias.
N/D, será el que se muestre como autor de este comentario