visitant ::
identificació
Dipòsit Digital de Documents de la UAB
Cerca
Lliura
Ajuda
Personalitza
Les vostres alertes
Els vostres cistells
Les vostres cerques
Servei de Biblioteques
Sobre el DDD
Català
English
Español
Pàgina inicial
>
Articles
>
Articles publicats
>
Strong strain gradients and phase coexistence at the metal-insulator transition in VO2 epitaxial films
>
Ressenyes
Informació:
Discussió (0)
Estadístiques d'ús
Strong strain gradients and phase coexistence at the metal-insulator transition in VO2 epitaxial films
-
Rodríguez Domínguez, Laura
(Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
;
Sandiumenge Ortiz, Felip
(Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ;
Frontera, Carlos
(Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ;
Caicedo Roque, Jose Manuel
(Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ;
Padilla-Pantoja, Jessica
(Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ;
Catalan, Gustau
(Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ;
Santiso, José
(Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Comentaris
(0) |
Ressenyes (0)
Sigueu el primer a escriure una ressenya d'aquest document.
Afegiu la vostra ressenya
Valoreu aquest article:
-Seleccioneu una puntuació-
***** (best)
****
***
**
* (worst)
Doneu un títol a la vostra ressenya:
Escriviu la vostra ressenya:
Vigileu: encara no heu
definit el vostre àlies
.
N/D
s'usarà temporalment com a autor d'aquest comentari.
Registres semblants