guest ::
login
UAB Digital Repository of Documents
Search
Submit
Help
Personalize
Your alerts
Your baskets
Your searches
Library Service
About DDD
Català
English
Español
Home
>
Research literature
>
Doctoral theses
>
Caracterització a escala nanomètrica de la degradació i ruptura dielèctrica del SiO2 en dispositius MOS mitjançant C-AFM
>
Reviews
Information
Discussion (0)
Usage statistics
Caracterització a escala nanomètrica de la degradació i ruptura dielèctrica del SiO2 en dispositius MOS mitjançant C-AFM
-
Porti i Pujal, Marc
;
Aymerich Humet, Xavier,
dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ;
Nafría i Maqueda, Montserrat,
dir. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Comments
(0) |
Reviews (0)
Be the first to review this document.
Add review
Rate this article:
-Select a score-
***** (best)
****
***
**
* (worst)
Give a title to your review:
Write your review:
Note: you have not
defined your nickname
.
N/D
will be displayed as the author of this comment.
Similar records