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1.
31 p, 1.5 MB In situ XPS analysis of the electronic structure of silicon and titanium thin films exposed to low-pressure inductively-coupled RF plasma / Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Schütte, Max (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Sauthier, Guillaume (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Tallarida, Massimo (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Ferrer, Salvador (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Carlino, Vincent (IBSS Group Inc.) ; Pellegrin, Eric (Carl Zeiss SMT GmbH)
Carbon contamination of synchrotron and free-electron lasers beamline optics continues to be a major nuisance due to the interaction of the intense photon beams with the surfaces of the optical elements in the presence of residual gases even in ultrahigh vacuum (UHV) conditions. [...]
2021 - 10.1016/j.apsusc.2020.148684
Applied surface science, Vol. 542 (March 2021) , art. 148684  
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