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11 p, 17.0 MB Stress-Induced In Situ Modification of Transition Temperature in VO Films Capped by Chalcogenide / Sakai, Joe (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Kuwahara, Masashi (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology) ; Okimura, Kunio (Tokai University. Graduate School of Science and Technology) ; Uehara, Yoichi (Tohoku University. Research Institute of Electrical Communication)
We attempted to modify the monoclinic-rutile structural phase transition temperature (T ) of a VO thin film in situ through stress caused by amorphous-crystalline phase change of a chalcogenide layer on it. [...]
2020 - 10.3390/ma13235541
Materials, Vol. 13, Issue 23 (December 2020) , art. 5541  
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