Pàgina inicial > Articles > Articles publicats > Degradation and regeneration mechanisms of NiO protective layers deposited by ALD on photoanodes > Ressenyes
 
 
Degradation and regeneration mechanisms of NiO protective layers deposited by ALD on photoanodes - Ros, Carles (Institut de Recerca en Energia de Catalunya) ; Andreu, Teresa (Institut de Recerca en Energia de Catalunya) ; David, Jérémy (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Arbiol i Cobos, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Morante, Joan Ramon (Institut de Recerca en Energia de Catalunya)
 
Comentaris (0) | Ressenyes (0)
Sigueu el primer a escriure una ressenya d'aquest document.

Afegiu la vostra ressenya

Valoreu aquest article:
Doneu un títol a la vostra ressenya:
Escriviu la vostra ressenya:
Vigileu: encara no heu definit el vostre àlies.
N/D s'usarà temporalment com a autor d'aquest comentari.
Registres semblants

Dipòsit Digital de Documents de la UAB :: Cerca :: Lliura :: Personalitza :: Ajuda
Powered by Invenio v1.1.6
Mantingut per ddd.bib@uab.cat  :: Metadades subjectes a:
Col·laborem