Pàgina inicial > Articles > Articles publicats > Degradation and regeneration mechanisms of NiO protective layers deposited by ALD on photoanodes > Comentaris
 
 
Degradation and regeneration mechanisms of NiO protective layers deposited by ALD on photoanodes - Ros, Carles (Institut de Recerca en Energia de Catalunya) ; Andreu, Teresa (Institut de Recerca en Energia de Catalunya) ; David, Jérémy (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Arbiol i Cobos, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Morante, Joan Ramon (Institut de Recerca en Energia de Catalunya)
 
Comentaris (0) | Ressenyes (0)
Enceteu un debat sobre qualsevol aspecte d'aquest document.

 Subscriure's to this discussion. You will then receive all new comments by email.

Afegeix un comentari


Un cop identificats, els usuaris autoritzats també hi poden adjuntar fitxers.
Vigileu: encara no heu definit el vostre àlies.
N/D s'usarà temporalment com a autor d'aquest comentari.
          You can use some HTML tags: <a href>, <strong>, <blockquote>, <br />, <p>, <em>, <ul>, <li>, <b>, <i>

Registres semblants

Dipòsit Digital de Documents de la UAB :: Cerca :: Lliura :: Personalitza :: Ajuda
Powered by Invenio v1.1.6
Mantingut per ddd.bib@uab.cat  :: Metadades subjectes a:
Col·laborem