Neutral organic radical formation by chemisorption on metal surfaces

Neutral organic radical formation by chemisorption on metal surfaces - Ajayakumar, M. R. (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Moreno, Cesar (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Alcón, Isaac (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Illas, Francesc (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Rovira Angulo, Concepció (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Veciana i Miró, Jaume (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Bromley, Stefan (Universitat de Barcelona. Departament de Ciència de Materials i Química Física) ; Mugarza, Aitor (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Mas-Torrent, Marta (Institut de Ciència de Materials de Barcelona)

Comentaris (0) | Ressenyes (0)

Sigueu el primer a escriure una ressenya d'aquest document.

Afegiu la vostra ressenya

Valoreu aquest article:

Doneu un títol a la vostra ressenya:

Escriviu la vostra ressenya:

Vigileu: encara no heu definit el vostre àlies.
N/D s'usarà temporalment com a autor d'aquest comentari.

Registres semblants