Bias dependent variability of low-frequency noise in single-layer graphene FETs
Mavredakis, Nikolaos (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Garcia Cortadella, Ramon (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Illa, Xavi (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
Schaefer, Nathan (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Bonaccini Calia, Andrea (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Guimerà Brunet, Anton (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
Garrido, Jose (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Jiménez Jiménez, David (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)

Fecha:	2020
Resumen:	Low-frequency noise (LFN) variability in graphene transistors (GFETs) is for the first time researched in this work under both experimental and theoretical aspects. LFN from an adequate statistical sample of long-channel solution-gated single-layer GFETs is measured in a wide range of operating conditions while a physics-based analytical model is derived that accounts for the bias dependence of LFN variance with remarkable performance. LFN deviations in GFETs stem from the variations of the parameters of the physical mechanisms that generate LFN, which are the number of traps (Ntr) for the carrier number fluctuation effect (ΔN) due to trapping/detrapping process and the Hooge parameter (αH) for the mobility fluctuations effect (Δμ). ΔN accounts for an M-shape of normalized LFN variance versus gate bias with a minimum at the charge neutrality point (CNP) as it was the case for normalized LFN mean value while Δμ contributes only near the CNP for both variance and mean value. Trap statistical nature of the devices under test is experimentally shown to differ from classical Poisson distribution noticed at silicon-oxide devices, and this might be caused both by the electrolyte interface in GFETs under study and by the premature stage of the GFET technology development which could permit external factors to influence the performance. This not fully advanced GFET process growth might also cause pivotal inconsistencies affecting the scaling laws in GFETs of the same process. This journal is.
Ayudas:	European Commission 665919 European Commission 732032 European Commission 785219 European Commission 881603 Ministerio de Ciencia e Innovación RTI2018-097876-B-C21 Ministerio de Ciencia e Innovación TEC2015-67462-C2-1-R Ministerio de Economía y Competitividad SEV-2017-0706
Nota:	Altres ajuts: we also acknowledge Financial support by Spanish government under the project 001-P-001702-GraphCat: Communitat Emergent de grafè a Catalunya, co-funded by FEDER within the framework of Programa Operatiu FEDER de Catalunya 2014-2020.
Derechos:	Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, la comunicació pública de l'obra i la creació d'obres derivades, fins i tot amb finalitats comercials, sempre i quan es reconegui l'autoria de l'obra original.
Lengua:	Anglès
Documento:	Article ; recerca ; Versió publicada
Materia:	Carrier number fluctuation ; Devices under tests ; Electrolyte interfaces ; Mobility fluctuations ; Operating condition ; Statistical samples ; Technology development ; Theoretical aspects
Publicado en:	Nanoscale advances, Vol. 2, issue 11 (Nov. 2020) , p. 5450-5460, ISSN 2516-0230

DOI: 10.1039/d0na00632g
PMID: 36132035

11 p, 805.0 KB

El registro aparece en las colecciones:
Documentos de investigación > Documentos de los grupos de investigación de la UAB > Centros y grupos de investigación (producción científica) > Ciencias > Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia (ICN2)
Artículos > Artículos de investigación
Artículos > Artículos publicados