Comparison of OFF-State, HCI and BTI degradation in FDSOI Ω-gate NW-FETs - Valdivieso, Carlos (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Crespo Yepes, Albert (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Miranda, R. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Bernal, D. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Martin Martinez, Javier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Rodríguez Martínez, Rosana (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
 
Comentarios (0) | Reseñas (0)
Sea el primero a escribir una reseña de este documento.

Añada su reseña

Valore este artículo:
Dé un título a su reseña:
Escriba su reseña:
Atención: todavía no ha definido su alias.
N/D, será el que se muestre como autor de este comentario