Identifying the nature of surface chemical modification for directed self-assembly of block copolymers
Evangelio Araujo, Laura (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Gramazio, Federico (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Lorenzoni, Matteo (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
Gorgoi, Michaela (Helmholtz-Zentrum Berlin. Energy Materials In-situ Laboratory)
Espinosa, Francisco Miguel (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid)
García, Ricardo (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid)
Pérez-Murano, Francesc (Institut de Microelectrònica de Barcelona)
Fraxedas, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)

Data:	2017
Resum:	In recent years, block copolymer lithography has emerged as a viable alternative technology for advanced lithography. In chemical-epitaxy-directed self-assembly, the interfacial energy between the substrate and each block copolymer domain plays a key role on the final ordering. Here, we focus on the experimental characterization of the chemical interactions that occur at the interface built between different chemical guiding patterns and the domains of the block copolymers. We have chosen hard X-ray high kinetic energy photoelectron spectroscopy as an exploration technique because it provides information on the electronic structure of buried interfaces. The outcome of the characterization sheds light onto key aspects of directed self-assembly: grafted brush layer, chemical pattern creation and brush/block co-polymer interface.
Nota:	The license is subject to the Beilstein Journal of Nanotechnology terms and conditions: http://www.beilstein-journals.org/bjnano
Nota:	Número d'acord de subvenció EC/FP7/619793
Nota:	Número d'acord de subvenció EC/FP7/318804
Nota:	Número d'acord de subvenció EC/FP7/288879
Nota:	Número d'acord de subvenció MINECO/TEC2015-69864-R
Nota:	Número d'acord de subvenció MINECO/SEV-2013-0295
Nota:	Número d'acord de subvenció MINECO/MAT2013-4458-R
Nota:	Número d'acord de subvenció MEC/FPU/13/03746
Drets:	Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, la comunicació pública de l'obra i la creació d'obres derivades, fins i tot amb finalitats comercials, sempre i quan es reconegui l'autoria de l'obra original.
Llengua:	Anglès
Document:	article ; recerca ; publishedVersion
Matèria:	Block copolymer ; Chemical guiding pattern ; Directed self-assembly ; Thin film ; X-ray photoemission spectroscopy
Publicat a:	Beilstein journal of nanotechnology, Vol. 8 (Sep. 2017) , p. 1972-1981, ISSN 2190-4286

DOI: 10.3762/bjnano.8.198
PMID: 29046845

10 p, 6.7 MB

El registre apareix a les col·leccions:
Documents de recerca > Documents dels grups de recerca de la UAB > Centres i grups de recerca (producció científica) > Ciències > Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia (ICN2)
Articles > Articles de recerca
Articles > Articles publicats