In-line metrology for roll-to-roll UV assisted nanoimprint lithography using diffractometry
Kreuzer, Martin (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Whitworth, Guy L. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Francone, Achille (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Gomis-Bresco, Jordi (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Kehagias, Nikolaos (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)
Sotomayor Torres, Clivia M. (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia)

Fecha:	2018
Resumen:	We describe and discuss the optical design of a diffractometer to carry out in-line quality control during roll-to-roll nanoimprinting. The tool measures diffractograms in reflection geometry, through an aspheric lens to gain fast, non-invasive information of any changes to the critical dimensions of target grating structures. A stepwise tapered linear grating with constant period was fabricated in order to detect the variation in grating linewidth through diffractometry. The minimum feature change detected was ∼40 nm to a precision of 10 nm. The diffractometer was then integrated with a roll-to-roll UV assisted nanoimprint lithography machine to gain dynamic measurements in situ.
Ayudas:	European Commission 721062 European Commission 604668 Ministerio de Economía y Competitividad FIS2015-70862-P Ministerio de Economía y Competitividad SEV-2013-0295
Nota:	En publicar-se l'article, l'autor Martin Kreuzer treballa a: ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró
Derechos:	Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, la comunicació pública de l'obra i la creació d'obres derivades, fins i tot amb finalitats comercials, sempre i quan es reconegui l'autoria de l'obra original.
Lengua:	Anglès
Documento:	Article ; recerca ; Versió publicada
Materia:	Critical dimension ; Feature changes ; Grating structures ; In-line metrology ; Linear gratings ; Nano-imprinting ; Reflection geometry ; UV-assisted nanoimprint lithography
Publicado en:	APL materials, Vol. 6, Issue 5 (May 2018) , art. 58502, ISSN 2166-532X

DOI: 10.1063/1.5011740

7 p, 1.5 MB

El registro aparece en las colecciones:
Documentos de investigación > Documentos de los grupos de investigación de la UAB > Centros y grupos de investigación (producción científica) > Ciencias > Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia (ICN2)
Documentos de investigación > Documentos de los grupos de investigación de la UAB > Centros y grupos de investigación (producción científica) > Ciencias > El Sincrotrón ALBA
Artículos > Artículos de investigación
Artículos > Artículos publicados