visitant ::
identificació
|
|||||||||||||||
Cerca | Lliura | Ajuda | Servei de Biblioteques | Sobre el DDD | Català English Español |
Pàgina inicial > Articles > Articles publicats > In-line metrology for roll-to-roll UV assisted nanoimprint lithography using diffractometry |
Data: | 2018 |
Resum: | We describe and discuss the optical design of a diffractometer to carry out in-line quality control during roll-to-roll nanoimprinting. The tool measures diffractograms in reflection geometry, through an aspheric lens to gain fast, non-invasive information of any changes to the critical dimensions of target grating structures. A stepwise tapered linear grating with constant period was fabricated in order to detect the variation in grating linewidth through diffractometry. The minimum feature change detected was ∼40 nm to a precision of 10 nm. The diffractometer was then integrated with a roll-to-roll UV assisted nanoimprint lithography machine to gain dynamic measurements in situ. |
Ajuts: | European Commission 721062 European Commission 604668 Ministerio de Economía y Competitividad FIS2015-70862-P Ministerio de Economía y Competitividad SEV-2013-0295 |
Nota: | En publicar-se l'article, l'autor Martin Kreuzer treballa a: ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró |
Drets: | Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, la comunicació pública de l'obra i la creació d'obres derivades, fins i tot amb finalitats comercials, sempre i quan es reconegui l'autoria de l'obra original. |
Llengua: | Anglès |
Document: | Article ; recerca ; Versió publicada |
Matèria: | Critical dimension ; Feature changes ; Grating structures ; In-line metrology ; Linear gratings ; Nano-imprinting ; Reflection geometry ; UV-assisted nanoimprint lithography |
Publicat a: | APL materials, Vol. 6, Issue 5 (May 2018) , art. 58502, ISSN 2166-532X |
7 p, 1.5 MB |