Inductively coupled remote plasma-enhanced chemical vapor deposition (rPE-CVD) as a versatile route for the deposition of graphene micro- and nanostructures - González Cuxart, Marc (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Šics, Igors (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Goñi, Alejandro (Institut de Ciència de Materials de Barcelona) ; Pach, Elzbieta (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Sauthier, Guillaume (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Paradinas Aranjuelo, Marcos (Institut Català de Nanociència i Nanotecnologia) ; Foerster, Michael (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Aballe, Lucía (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Moreno Fernández, Harol Aníbal (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró) ; Carlino, Vincent (Ibss Group Inc) ; Pellegrin, Eric (ALBA Laboratori de Llum de Sincrotró)