| Home > Books and collections > Book chapters > Circuit reliability prediction : |
| Imprint: | Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2021 |
| Abstract: | The characterization of the MOSFET Time-Dependent Variability (TDV) can be a showstopper for reliability-aware circuit design in advanced CMOS nodes. In this work, a complete MOSFET characterization flow is presented, in the context of a physics-based TDV compact model, that addresses the main TDV characterization challenges for accurate circuit reliability prediction at design time. The pillars of this approach are described and illustrated through examples. |
| Grants: | Agencia Estatal de Investigación PID2019-103869RB Agencia Estatal de Investigación TEC2016-75151-C3-1-R |
| Rights: | Aquest material està protegit per drets d'autor i/o drets afins. Podeu utilitzar aquest material en funció del que permet la legislació de drets d'autor i drets afins d'aplicació al vostre cas. Per a d'altres usos heu d'obtenir permís del(s) titular(s) de drets. |
| Language: | Anglès |
| Document: | Capítol de llibre ; recerca ; Versió acceptada per publicar |
| Subject: | Aging ; BTI ; Characterization ; CMOS technology ; HCI degradation ; MOSFET ; RTN ; Time-dependent variability |
| Published in: | 2021 IEEE Latin America Electron Devices Conference, 2021, p. 1-4, ISBN 978-1-6654-1510-1 |
Postprint 5 p, 667.4 KB |