Recovery of the MOSFET and circuit functionality after the dielectric breakdown of ultra-thin high-k gate stacks - Crespo Yepes, Albert (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Martin Martinez, Javier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Rothschild, A. (Interuniversity Micro-Electronics Center) ; Rodríguez Martínez, Rosana (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica) ; Aymerich Humet, Xavier (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
 
Comments (0) | Reviews (0)
Start a discussion about any aspect of this document.

 Subscribe to this discussion. You will then receive all new comments by email.

Add comment


Once logged in, authorized users can also attach files.
Note: you have not defined your nickname.
N/D will be displayed as the author of this comment.
          You can use some HTML tags: <a href>, <strong>, <blockquote>, <br />, <p>, <em>, <ul>, <li>, <b>, <i>