Web of Science: 14 citas, Scopus: 14 citas, Google Scholar: citas
Study on the Connection Between the Set Transient in RRAMs and the Progressive Breakdown of Thin Oxides
Aguirre, Fernando Leonel (Universidad Tecnológica Nacional (Argentina))
Rodríguez Fernández, Alberto (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Pazos, Sebastián Matías (Universidad Tecnológica Nacional (Buenos Aires, Argentina))
Suñé, Jordi 1963- (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Miranda, Enrique Alberto (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Palumbo, Félix (Universidad Tecnológica Nacional (Buenos Aires, Argentina))

Fecha: 2019
Resumen: In this paper, the transition rate (TR) from the high-resistance state to the low-resistance state of a HfO-based resistive random access memory (RRAM) is investigated. The TR is statistically characterized by applying constant voltage stresses in the range from 0. 45 to 0. 65 V. It is found that TR follows a voltage dependence which closely resembles the one exhibited by metal-insulator-semiconductor / metal-insulator-metal structures when subjected to constant voltage stress, but with remarkably different fitting parameters. This result suggests a common underlying mechanism in both evolutionary behaviors. Furthermore, the investigation provides additional evidence supporting the micro-structural changes in the oxide after the forming step as well as the role played by the atomic species during the SET event.
Ayudas: European Commission 783176
Derechos: Aquest material està protegit per drets d'autor i/o drets afins. Podeu utilitzar aquest material en funció del que permet la legislació de drets d'autor i drets afins d'aplicació al vostre cas. Per a d'altres usos heu d'obtenir permís del(s) titular(s) de drets.
Lengua: Anglès
Documento: Article ; recerca ; Versió acceptada per publicar
Publicado en: IEEE transactions on electron devices, Vol. 66, Issue 8 (August 2019) , p. 3349-3355, ISSN 1557-9646

DOI: 10.1109/TED.2019.2922555


Postprint
8 p, 3.6 MB

El registro aparece en las colecciones:
Artículos > Artículos de investigación
Artículos > Artículos publicados

 Registro creado el 2019-11-28, última modificación el 2026-01-30



   Favorit i Compartir