Web of Science: 1 citations, Scopus: 1 citations, Google Scholar: citations
Impact of OFF-State, HCI and BTI degradation in FDSOI Ω-gate NW-FETs
Valdivieso, Carlos (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Crespo-Yepes, A. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Miranda, R. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Bernal, D. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Martin-Martinez, J. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Rodriguez, R. (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Nafria, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)

Date: 2023
Description: 5 pàg.
Abstract: In this work, the degradation of N-type FDSOI Ω-gate NW-FETs caused by OFF-State stress under different conditions has been experimentally studied and compared with the effects of positive/negative BTI and HCI aging. The experimental observations show that, in these devices, HCI and OFF-State are the most damaging aging mechanisms while N/PBTI stresses produce negligible degradation. Moreover, for large enough stress conditions, OFF-State aging introduces large leakage currents, largely distorting the ID-VG curves of the transistor.
Grants: Agencia Estatal de Investigación PID2019-103869RB-C32
Rights: Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, i la comunicació pública de l'obra, sempre que no sigui amb finalitats comercials, i sempre que es reconegui l'autoria de l'obra original. No es permet la creació d'obres derivades. Creative Commons
Language: Anglès
Document: Article ; recerca ; Versió acceptada per publicar
Subject: Aging ; BTI ; FD-SOI ; HCI ; NW-FETs ; OFF-State ; Reliability ; Stress
Published in: Solid-state electronics, Vol. 203 (May 2023) , art. 108625, ISSN 1879-2405

DOI: 10.1016/j.sse.2023.108625


Postprint
12 p, 816.9 KB

The record appears in these collections:
Articles > Research articles
Articles > Published articles

 Record created 2023-10-10, last modified 2026-06-25



   Favorit i Compartir