Gate current analysis of AlGaN/GaN on silicon heterojunction transistors at the nanoscale
Fontserè Recuenco, Abel (Centro Nacional de Microelectrónica)
Perez-Tomas, Amador (Centro Nacional de Microelectrónica)
Placidi, Marcel (Centro Nacional de Microelectrónica)
Aguiló Llobet, Jordi (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament de Microelectrònica i Sistemes Electrònics)
Baron, N. (Centre National de la Recherche Scientifique (França))
Chenot, S. (Centre National de la Recherche Scientifique (França))
Cordier, Y. (Centre National de la Recherche Scientifique (França))
Moreno, J. C. (Centre National de la Recherche Scientifique (França))
Iglesias, Vanessa (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Porti i Pujal, Marc (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Bayerl, Albin (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Lanza, Mario (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Nafría i Maqueda, Montserrat (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)

Fecha:	2012
Resumen:	The gate leakage current of AlGaN/GaN (on silicon)high electron mobility transistor(HEMT) is investigated at the micro and nanoscale. The gate current dependence (25-310 °C) on the temperature is used to identify the potential conduction mechanisms, as trap assisted tunneling or field emission. The conductive atomic force microscopy investigation of the HEMT surface has revealed some correlation between the topography and the leakage current, which is analyzed in detail. The effect of introducing a thin dielectric in the gate is also discussed in the micro and the nanoscale.
Derechos:	Aquest material està protegit per drets d'autor i/o drets afins. Podeu utilitzar aquest material en funció del que permet la legislació de drets d'autor i drets afins d'aplicació al vostre cas. Per a d'altres usos heu d'obtenir permís del(s) titular(s) de drets.
Lengua:	Anglès
Documento:	Article ; recerca ; Versió publicada
Materia:	III-V semiconductors ; MODFETs ; Atomic force microscopy ; Leakage currents ; Epitaxy
Publicado en:	Applied physics letters, Vol. 101, Issue 9 (August 2012) , p. 093505/1-093505/4, ISSN 1077-3118

DOI: 10.1063/1.4748115

5 p, 1.9 MB

El registro aparece en las colecciones:
Documentos de investigación > Documentos de los grupos de investigación de la UAB > Centros y grupos de investigación (producción científica) > Ingeniería > Grupo de Fiabilidad de Dispositivos y Circuitos Electrónicos (REDEC)
Artículos > Artículos de investigación
Artículos > Artículos publicados