CMOS-NEMS Copper Switches Monolithically Integrated Using a 65 nm CMOS Technology
Muñoz Gamarra, Jose Luis (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Uranga del Monte, Aránzazu (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Barniol i Beumala, Núria (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
Data: |
2016 |
Resum: |
This work demonstrates the feasibility to obtain copper nanoelectromechanical (NEMS) relays using a commercial complementary metal oxide semiconductor (CMOS) technology (ST 65 nm) following an intra CMOS-MEMS approach. We report experimental demonstration of contact-mode nano-electromechanical switches obtaining low operating voltage (5. 5 V), good ION/IOFF (103) ratio, abrupt subthreshold swing (4. 3 mV/decade) and minimum dimensions (3. 50 µm x 100 nm x 180 nm, and gap of 100 nm). With these dimensions, the operable Cell area of the switch will be 3. 5 µm (length) x 0. 2 µm (100 nm width + 100 nm gap) = 0. 7 µm2 which is the smallest reported one using a top-down fabrication approach. |
Drets: |
Aquest document està subjecte a una llicència d'ús Creative Commons. Es permet la reproducció total o parcial, la distribució, la comunicació pública de l'obra i la creació d'obres derivades, fins i tot amb finalitats comercials, sempre i quan es reconegui l'autoria de l'obra original. |
Llengua: |
Anglès |
Document: |
Article ; recerca ; Versió publicada |
Matèria: |
CMOS-NEMS ;
NEMS ;
NEMS switch ;
Copper switch |
Publicat a: |
Micromachines, Vol. 7 Núm. 2 (February 2016) , p. 1-7, ISSN 2072-666X |
DOI: 10.3390/mi7020030
PMID: 30407403
El registre apareix a les col·leccions:
Articles >
Articles de recercaArticles >
Articles publicats
Registre creat el 2016-12-12, darrera modificació el 2022-03-26