|
|
|||||||||||||||
|
Cerca | Lliura | Ajuda | Servei de Biblioteques | Sobre el DDD | Català English Español | |||||||||
| Pàgina inicial > Articles > Articles publicats > Spin transport in dangling-bond wires on doped H-passivated Si(100) |
| Data: | 2014 |
| Resum: | New advances in single-atom manipulation are leading to the creation of atomic structures on H-passivated Si surfaces with functionalities important for the development of atomic and molecular based technologies. We perform total-energy and electron-transport calculations to reveal the properties and understand the features of atomic wires crafted by H removal from the surface. The presence of dopants radically change the wire properties. Our calculations show that dopants have a tendency to approach the dangling-bond wires, and in these conditions, transport is enhanced and spin selective. These results have important implications in the development of atomic-scale spintronics showing that boron, and to a lesser extent phosphorous, convert the wires in high-quality spin filters. |
| Ajuts: | Ministerio de Economía y Competitividad FIS2012-37549-C05-05 Ministerio de Economía y Competitividad CSD2007-00041 Ministerio de Economía y Competitividad MAT2012-38318-C03-02 |
| Drets: | Aquest material està protegit per drets d'autor i/o drets afins. Podeu utilitzar aquest material en funció del que permet la legislació de drets d'autor i drets afins d'aplicació al vostre cas. Per a d'altres usos heu d'obtenir permís del(s) titular(s) de drets. |
| Llengua: | Anglès |
| Document: | Article ; recerca ; Versió sotmesa a revisió |
| Matèria: | DFT ; Dopant ; Electronic transport ; NEGF ; Spintronics |
| Publicat a: | Nanotechnology, Vol. 25, Issue 46 (November 2014) , art. 465703, ISSN 1361-6528 |
Preprint 12 p, 755.5 KB |