Drift-diffusion model for single layer transition metal dichalcogenide field-effect transistors
Jiménez Jiménez, David (Universitat Autònoma de Barcelona. Departament d'Enginyeria Electrònica)
American Physical Society

Data:	2012
Resum:	A physics-based model for the surface potential and drain current for monolayertransition metal dichalcogenide (TMD) field-effect transistor is presented. Taking into account the two-dimensional (2D) density-of-states of the atomic layer thick TMD and its impact on the quantum capacitance, a model for the surface potential is presented. Next, considering a drift-diffusion mechanism for the carrier transport along the monolayer TMD, an explicit expression for the drain current has been derived. The model has been benchmarked with a measured prototype transistor. Based on the proposed model, the device design window targeting low-power applications is discussed.
Drets:	Aquest material està protegit per drets d'autor i/o drets afins. Podeu utilitzar aquest material en funció del que permet la legislació de drets d'autor i drets afins d'aplicació al vostre cas. Per a d'altres usos heu d'obtenir permís del(s) titular(s) de drets.
Llengua:	Anglès
Document:	Article ; recerca ; Versió publicada
Matèria:	Monolayers ; Transistors ; Field effect transistors ; Surface charge ; Capacitance ; Ballistic transport
Publicat a:	Applied physics letters, Vol. 101, Issue 24 (December 2012) , p. 243501/1-243501/4, ISSN 1077-3118

DOI: 10.1063/1.4770313

5 p, 625.2 KB

El registre apareix a les col·leccions:
Articles > Articles de recerca
Articles > Articles publicats